光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光 、电子束、离子束、X射线 等的照射或辐射,其溶解度 发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
由感光树脂、增感剂 和溶剂 3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。
半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。
光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。
在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶 。
如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶 。
按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶 (包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶 、离子束胶等。
光刻胶 主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 。
光刻胶生产技术较为复杂,品种规格较多,在电子工业集成电路的制造中,对所使用光刻胶有严格的要求。