从企业在商言商角度出发，我们认为成熟制程仍有产业链充分合作的基础，对美欧日而言，继续销售部分设备，同时利用中国大陆成熟制程降低芯片成本仍是最优选择。ASML未来可以采取硬件降级或软件锁定方式，限制部分机型的特性，例如降低光刻机套刻精度，以限制多重曝光的实现。至于全球最先进的EUV（极紫外）光刻机，此前一直对华禁售，本次对于EUV光刻机而言不存在增量影响。

短期来看，可以关注日本厂商占有领先地位的、并能够实现国产替代的设备/材料环节，如涂胶显影设备、测试设备、扩散/热处理设备、光刻胶、抛光液等。 长期来看，限制条件的扩大将倒逼产业链国产化进程的加速，可以关注受益国产替代加速的设备、零部件、材料、高端芯片等各环节的相关标的。