苏大维格高性能光刻设备顺利交付：助力光子芯片、光通信等光电子产业发展与创新！
城大研发全球领先的微波光子芯片 可作超高速讯号处理
香港城市大学（城大）电机工程学系王骋教授领导的研究团队，开发出全球领先的微波光子芯片，能运用光学进行超快模拟电子讯号处理及运算。
这种芯片比传统电子处理器的速度快1,000倍、耗能更低，且应用范围广泛，涵盖5/6G无线通讯系统、高解析度雷达系统、人工智能、计算机视觉，以及图像/视频处理。
团队的研究成果刚在权威学术期刊《自然》上发表，题为「集成铌酸锂微波光子处理引擎」。该研究与香港中文大学的学者合作进行。
无线网络、物联网与云端服务的快速扩展，对底层射频系统产生巨大需求。微波光子技术使用光学元件以产生、传输和调控微波讯号，为应对这些挑战提供有效解决方案。然而，集成微波光子系统一直难以同时实现晶片集成、高保真度及低功耗的超高速模拟讯号处理。
王教授说：「为了解决这些难题，我们的团队开发了集成微波光子系统，将超快电光转换模块与低损耗、多功能讯号处理模块同时结合在一块芯片上，这是前所未有的成果。」
能达致这种卓越效能，是透过基于薄膜铌酸锂平台的集成微波光子处理引擎，该平台能执行模拟讯号的多用途处理及计算工作。
苏大维格高性能光刻设备顺利交付：助力光子芯片、光通信等光电子产业发展与创新！
近日，苏大维格自主研发制造的大型直写光刻设备顺利交付，该设备主要用于光子芯片、光通信和光芯片等光电子领域相关材料的光刻制造，为客户搭建先进光电子器件制造的高端装备平台。
随着各行业智能化进程的提速与数据流量的爆发，光电子领域的芯片、器件及相关模块向高速率、集成化、大容量、低成本方向演进，为公司高性能光刻设备的产业化拓展带来巨大机遇。
苏大维格自主研发的大型直写光刻设备具备综合性能优势：
3D矢量设计数据向微结构形貌转化先进算法与软件处理
海量数据处理与传输/快速光刻
大面积衬底实时三维导航自聚焦功能
三维微结构形貌曝光邻近效应补偿
支持大面积光刻厚胶板制备…
能为各类新颖光电子材料与相关功能器件的生产制造和产业创新提供关键技术支撑和高端制造平台。
目前苏大维格已签订了数个大型光刻设备合同，主要用于光子芯片、光芯片、光掩模、票据防伪、泛半导体等领域相关材料和器件的光刻加工制作，公司将根据相关协议陆续交付。
苏大维格将持续拓展微纳光学技术/产品在国家票据和证件防伪材料、电子纸和反射式液晶前光材料、AR/MR和AR-HUD衍射光学材料、芯片光刻机定位光栅尺材料，以及光刻设备在光伏铜电镀图形化设备、高端掩模、光子芯片、光芯片等具有更高附加值和市场空间领域的商业化应用和产业化投资，竭力为客户提供先进的光学材料、光刻设备和解决方案，满足客户对微纳光刻制造的更高需求，助力其突破技术瓶颈，为产业合作创造新机遇。
此外，在光伏电镀铜图形化设备领域，苏大维格自行研发的高速低成本投影扫描光刻设备已顺利搭建完成，正在与下游客户做相关验证工作。
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