虽然在晶圆制造材料中靶材占比仅为2%，但如果靶材被断供，中国很多科技就成了无根之木。

 

举个例子：2021年时，中国光伏正在扩产的关键时刻，日本企业却将靶材优先供应给其他国外企业，不仅导致中国国内企业面临靶材短缺，价格上涨20%左右，而且让光伏产业也陷入产能困境。

 

目前我国靶材供应基本都集中在中低端领域，市场处于开拓初期，一旦别的国家不再卖给我们高端靶材，国内很多产业链都会断裂，所以中高端靶材国产化迫在眉睫。

 

 

讲溅射靶材之前，得先了解一下什么是PVD？

 

 

PVD （物理薄膜沉积法），是将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。

 

PVD 技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。用于制备薄膜材料的物质，统称为PVD 镀膜材料。

 

溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。

 

 

简单点说就是，芯片上有很多密密麻麻的金属线，这些金属线并不是人工焊上去的，而是必须要高纯度的金属靶材，通过溅射的方式完成。

 

 

被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜材料的原材料，称为溅射靶材。溅射靶材的作用和现实中靶子类似，充当的是离子束的“靶子”。

 

溅射靶材主要由靶坯、背板（或背管）等部分构成，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分。

 

溅射镀膜所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，溅射靶材是目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料。 

 

真空蒸发镀膜是指在真空条件下，利用膜材加热装置（称为蒸发源）的热能，通过加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面的一种沉积技术。

 

被蒸发的物质是用真空蒸发镀膜法沉积薄膜材料的原材料，称之为蒸镀材料。真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜。 

 

 

溅射靶材：高金属纯度要求，半导体制造关键材料

 

 

溅射靶材按材料可分为合金靶、陶瓷靶和金属靶，按形状分类，分为平面靶材、旋转靶材等；这些原材料都不稀奇，稀奇的是它们的要求，必须非常薄，而且纯度很高，不能有杂质。

 

高纯靶材产业链主要包括上游材料（金属铝、铜、钽、钛，合金，陶瓷化合物）、中游靶材制造和溅射镀膜，下游为终端应用。

 

 

下游可应用于面板显示（占比 30%）、半导体（占比 20%）、光伏（占比 18%）等领域，其中半导体生产对靶材的纯度有着更高的要求。

 

 

靶材各下游应用中，半导体技术要求最高，包括超高纯度金属（6N，≥99.9999%）、高精度尺寸、高集成度等；

 

平板显示技术要求高，包括高纯度金属（5N，≥99.99%）、靶材面积要求大、均匀程度要求高等；

 

太阳能电池技术要求高，包括高纯度金属（4N，≥99.99%）、应用范围广。

 

 

半导体行业主要金属靶材简介

 

半导体芯片的制作过程可分为硅片制造、晶圆制造和芯片封装三大环节，高纯溅射靶材则主要用于晶圆制造和芯片封装两个环节。

 

在晶圆制造环节被用作晶圆导电层、阻挡层以及金属栅极的溅镀，在芯片封装环节被用作贴片焊线的镀膜。

 

其中，铜靶、铝靶通常用作导电层，钽靶、钛靶通常用作阻挡层，镍铂合金靶、钴靶、钨钛合金靶通常用作接触层。

 

 

市场规模&竞争格局：增量可观，海外巨头优势明显。

 

 

2021年全球靶材市场规模约213亿美元，2016-2021年年均复合增长率约14.59%。

 

中国靶材市场规模在2021年约370亿元，2016-2021年均复合增长率约17.46%，根据预测，2026年我国靶材行业市场规模有望达655亿元。

 

 

海外巨头优势明显，国产替代空间广阔。根据新材料在线数据，日本日矿金属占比 30%，美国霍尼韦尔占比 20%，日本东曹占比 20%，美国普莱克斯占比10%，4 大厂商合计占比 80%，全球半导体靶材市场呈现出寡头格局。 

 

 

中国靶材市场中，外资厂商占比 70%，中国厂商江丰电子占比 3%、隆华科技（四丰电子、晶联光电）占比 3%、阿石创占比 1%。

 

 

高纯溅射靶材行业壁垒较高，国内企业努力缩小差距。

 

高纯溅射靶材行业存在严格的供应商认证机制，从新产品开发到实现大批量供货一般需要 2-3 年时间。

 

可以说掌握了溅射技术，就掌握了高端靶材的制备技术。但以美国、日本为代表的溅射靶材生产商长期把持着核心技术和关键设备。

 

国内高纯溅射靶材产业起步较晚，主要集中在低端产品领域，但是依靠产业政策导向、产品价格优势已经在国内市场占有一定的市场份额，并逐步在个别产品或领域挤占国际厂商的市场空间。

 

相关标的：

 

江丰电子和有研新材（有研亿金）以半导体靶材为主，阿石创和隆华科技（四丰电子、晶联光电）则以平板显示靶材为主。

 

江丰电子 ：国内高纯溅射靶材产业龙头，优质客户在手增长可期

 

公司创建于 2005 年，公司自成立以来一直从事高纯溅射靶材的研发、生产和销售业务，是国内高纯溅射靶材产业龙头。

 

公司主要产品为各种高纯溅射靶材，包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等，2021 年钽靶营收占比最高，为 32.48%，其次是铝靶，占比 17.37%，再次是钛靶，占比 13.40%。

 

 

公司的超高纯金属溅射靶材产品已应用于世界著名半导体厂商的最先端制造工艺，在16纳米技术节点实现批量供货，成功打破了美、日跨国公司的垄断格局。

 

目前江丰电子销售网络覆盖欧洲、北美及亚洲各地。目前，公司已经成为中芯国际、台积电、格罗方德、意法半导体、东芝、海力士、京东方、SunPower 等国内外知名厂商的高纯溅射靶材供应商。

 

公司毛利率平稳，钛靶毛利率较高。2021 年，公司销售毛利率 25.56%，销售净利率 6.23%。产品组合对整体毛利率的影响较大，2021 年钛靶毛利率 39.54%，铝靶毛利率 37.46%，钽靶毛利率 22.99%。

 

公司钽靶材及环件在台积电 7nm 芯片中已经量产，应用 5nm 技术节点的部分产品评价通过并量产，部分产品进入验证阶段。随着产线优化和产能扩充，高纯铝、高纯钼等高纯金属材料将逐步实现量产。

 

2022 年 6 月公司发布 16 亿元规模定增预案，资金将用扩大半导体靶材生产规模，公司将显著提升集成电路用铝靶材、钛靶材、铜靶材、钽靶材等产品的产能，在生产端扩大规模优势，在客户端增强供货和服务的及时性，有望进一步提升公司的市场份额和竞争地位。

 

 

有研新材：有色金属材料龙头，子公司有研亿金布局高端靶材产品

 

 

有研新材是有色金属新材料行业骨干企业，主要从事稀土材料、微光电子用薄膜材料、生物医用材料、稀有金属及贵金属、红外光学及光电材料等新材料的研发与生产。

 

 

子公司有研亿金为国内靶材龙头，具备从超高纯原材料到溅射靶材、蒸发膜材垂直一体化研发/生产能力的产业化平台。

 

产品涵盖高纯铜、钛、钴、铝、镍、金、银、铂、钌及其合金等电子信息行业用全系列高纯金属材料、溅射靶材和蒸发膜材，广泛应用于半导体分离器件和集成电路等领域。

 

有研亿金的铜系列高端靶材产品全面实现技术突破，12 英寸高纯铜及铜合金靶材、高纯镍铂靶材和高纯钴靶材的多款产品已经通过多家集成电路高端客户认证，开始批量供货，随着半导体晶圆集成度越来越高，靶材也将向着高纯度、大尺寸方向发展。

 

有研亿金积极推进“有研亿金靶材扩产项目”立项实施，项目建成后有望进一步优化和改善靶材产品结构和生产工艺，产能进一步提升至73000 块，不断夯实靶材产业发展基础，产品市场占有率显著提高。

 

 

阿石创：专门从事各种PVD镀膜材料研发、生产和销售的生产型企业。

 

 

公司成立于2002年，2007年深交所上市，主要产品包括溅射靶材、蒸镀材料、电子化学材料、金属材料等。

 

公司溅射靶材产品主要有金属、非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材，主要应用领域为平板显示、光学元器件、节能玻璃等行业。

 

2022年前三季度，阿石创主营收入4.98亿元，同比+15.91%；归母净利润1618.23万元，同比+32.21%；溅射靶材是阿石创营收主力，2022年上半年溅射靶材营收1.85亿元，占比56.8%。

 

         
隆华科技目前主要有三家子公司专业从事靶材业务：四丰电子、晶联光电、丰联科，产品包括钼靶、钨靶、ITO靶材等。

 

 

公司在平面显示靶材行业处于国内领先地位，四丰电子和晶联光电分别在钼靶和ITO靶材业务均属于行业龙头。公司是京东方A和TCL的最大供应商，国外主要客户有LG等公司。

 

2022年前三季度，隆华科技营收16.9亿元，同比+10.89%，归母净利润1.54亿元，同比-24.25%。

 

 

 

 

 

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