国内稀缺、全球领先的半导体设备公司。公司以刻蚀设备起家,后推出MOCVD设备,并逐步拓展VOC设备等产品,过去4年营收/净利润CAGR 38.97%/32.28%。公司产品已进入中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、台积电、海力士、三安光电等头部晶圆厂,刻蚀设备已进入台积电5nm产线。未来,公司料将受益晶圆厂扩产及国产替代持续,成长为泛半导体设备平台型企业,我们预计未来3年营收CAGR为34%。长期深耕刻蚀设备、技术全球领先,受益刻蚀环节价值提升及国产化。公司是国内唯一兼具CCP/ICP两种刻蚀技术的企业,产品线覆盖65nm-5nm各制程,具备双反应台等先进技术,目前在长江存储/华力集成招标中设备数占比14.2%/17%,设备数国内第一。目前行业集中度高,公司拟定增募资扩充刻蚀设备产能630腔/年,2026年达产后产能将较2021年提升6倍,有望持续受益国内晶圆厂扩产+国产化趋势。MOCVD迎来业绩拐点,广泛布局CVD打开更大市场。当前Mini LED、功率器件等有望进入快速增长期,带动公司MOCVD业务重回增长。此外,公司与沈阳拓荆协同覆盖薄膜沉积设备领域,公司布局HPCVD、LPCVD、ALD、EPI等薄膜沉积设备的开发和工艺应用,料将进一步打开市场空间。公司通过内生增长+外延并购,打造平台型半导体设备公司。设备端:公司对外参股睿励仪器、拓荆科技、Solayer等,布局前道量测设备,拓展赋能刻蚀、薄膜领域,形成协同效应,对内依托子公司中微惠创推出VOC设备进军配套环保领域;产业链:公司对外参股拓展衬底材料领域,对内通过中微汇链实现软硬件协同培育半导体生态链。预计公司未来将成为平台型半导体设备公司,在泛半导体广阔市场中持续增长。投资建议:我们预计公司2021~2023年净利润5.52/7.47/9.25亿元,目标价221元,给予“买入”评级。
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