黄仁勋向台积电放核弹！干掉40000台CPU服务器 计算光刻提速40倍。我们先来看看今天的“惊喜弹”：英伟达发布了一个造福先进芯片制造的突破性技术——NVIDIA cuLitho计算光刻库。

“计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。”黄仁勋讲解道，“大型数据中心24x7全天候运行，以便创建用于光刻系统的掩膜板。这些数据中心是芯片制造商每年投资近2000亿美元的资本支出的一部分。”

而cuLitho能够将计算光刻的速度提高到原来的40倍。老黄说，英伟达H100 GPU需要高达89块掩膜板，在CPU上运行时，处理单个掩膜板需要两周时间，而在GPU上运行cuLitho只需8小时。

       掩膜版又称为光掩模、光罩、光刻掩膜版，作为微电子制造过程中的图形转移工具或者母版，承载着图形设计和工艺技术信息，被认为是光刻工艺的“底片”，被应用于半导体芯片、平板显示、触控、电路板等行业。根据国际半导体产业协会Semi的数据，2020年掩膜版在半导体材料中占比约12%，仅次于硅片。

       据IC Insights统计， 2022年全球半导体行业资本开支将达1904亿美金，同比增长24%，创历史新高。半导体公司显著增加了资本开支以扩充产能。

　　具体到半导体掩膜版市场，根据SEMI的数据，2018年全球半导体掩膜版市场规模约40亿美元，2022年市场规模有望达到49亿美元，2019-2022年复合增速6%左右。

掩膜版上下游涉及广泛，上游为掩膜版设备、掩膜基板、遮光膜、化学试剂；供应商如日本东曹、菲力华、石英股份等。中游：掩膜版制造；主要企业包括日本HOYA、韩国LG-IT、清溢光电、路维光电。下游：IC制造、FPD平板显示、触控、电路板；主要企业为台积电、英特尔等半导体厂商；以及京东方、天马、TCL等平板显示厂商。

　　掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成。基板分为树脂基板和玻璃基板，玻璃基板的主流产品为石英基板和苏打基板。目前，石英掩膜版和苏打掩膜版是最常见的两种主流产品，均属于玻璃基板。石英掩膜版使用石英玻璃作为基板材料，光学透过率高，热膨胀率低，相比苏打玻璃更为平整和耐磨，使用寿命长，主要用于高精度掩膜版。

　　建议关注掩膜版制造领域的领先企业清溢光电、路维光电、英唐智控。

        清溢光电是中国大陆成立最早、规模最大的掩膜版厂商之一。半导体芯片掩膜版技术方面，已实现250nm工艺节点的6英寸和8英寸半导体芯片用掩膜版的量产，正在推进180nm半导体芯片用掩膜版的客户测试认证，同步开展130nm-65nm半导体芯片用掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

　    路维光电FPD掩膜版全世代产线覆盖，拥有国内首条G11超高世代掩膜版产线，是国内唯一一个覆盖G2.5-G11全世代产线的国产厂商。同时，公司实现了250nm制程节点半导体掩膜版量产，并掌握了180nm/150nm节点半导体掩版制造核心技术，满足先进半导体芯片封装和器件等应用需求。　

       英唐智控为包括京东方、华星光电、深天马在内的产商提供包括Mask（光掩膜版）等核心产品。

　　然而，纵观整个掩膜版产业链（设备、材料、制造等等），我国仍处于产业链的低端位臵，相应配套企业较少。截止2019年，全球前三大的IC掩膜版市场依次是中国台湾（37.92%）、韩国（20.91%）、北美（19.33%），中国大陆仅占比0.6%。