3月22日，在英伟达举办的GTC开发者大会上，这次被誉为人工智能的武林大会。CEO黄仁勋四次用“iPhone时刻”来形容AI当下的发展，概括一下就是说，今后的AI将会跟智能手机一样改变世界，改变每一个人。

而这个核弹级的NVIDIA H100 NVLINK芯片，牵连出一个巨大的需求，就是掩膜版。

“计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。”黄仁勋介绍说，大型数据中心24x7全天候运行，以便创建用于光刻系统的掩膜板。这些数据中心是芯片制造商每年投资近2000亿美元的资本支出的一部分。

英伟达的H100需要89块掩膜板，如果用CPU进行处理的话，每个掩膜板都需要消耗两周的时间。而如果在GPU上运行cuLitho，则只需8个小时即可处理完一个掩膜板。简单算一下就是时间缩短了了52倍，再叠加配套需求，逛逛这一项，那么掩膜板需求也至少增加100倍！

掩膜版（Photomask）又称为光掩模、光罩、光刻掩膜版，作为微电子制造过程中的图形转移工具或者母版，承载着图形设计和工艺技术信息，被认为是光刻工艺的“底片”，也是半导体等制造最为关键的耗材。

大基金二期即将启动投资，而新一期大基金将会对设备与材料等薄弱但关键环节予以重点支持，排名第一的材料便是掩膜版！

在自主可控的整体市场逻辑之下，A股的掩膜版龙头迎来重估——清溢光电！

清溢光电是国内成立最早的平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业用掩膜版生产企业之一。产品聚焦于低温多晶硅（LTPS）、金属氧化物（IGZO）、有源矩阵有机发光二极体（AMOLED）、MicroLED显示、硅基半导体显示、半导体芯片等领域，为客户提供丰富的平板显示、半导体芯片用掩膜版。公司产品设计和制造全程可控，在8.6代及以下平板显示及半导体领域均已具备较强的产品技术与制造工艺能力。

2021年公司半导体行业收入占比为16.68%。半导体芯片用掩膜版应用于封装、fab等领域，具体要求各有不同。公司掩膜版已应用到28nm、14nm半导体芯片的先进封装工艺。公司在半导体行业服务的客户包括中心国际、工三似、工两无进和长电科技、艾克尔等半导体公司。

掩膜版的价格主要取决于芯片所选用的“工艺节点”，工艺节点越高、流片价格就越贵。这是因为越先进的工艺节点，所需要使用的掩膜版层数就越多。据了解，在14nm工艺制程上，大约需要60张掩膜版，7nm可能需要80张甚至上百张掩膜版。

总之一句话：越先进的工艺节点，所需要使用的掩膜版层数就越多。

而现在随着人工智能的爆发，所需的算力、芯片基础越来越先进，掩膜版的需求、市场空间将是百倍级别的增加。

另外说一句：现公司实际控制人为全国政协常委、前香港政务司司长唐英年先生及唐英敏女士。这背景，不容小看。