一、事件：

华为MA­TE60的超高国产化引起国内外市场高度关注，热度继续发酵，海外各种花式拆机、水底遥感控制、砸机、跌落、冰敲冷冻、屏幕灵敏度等科学测试，号称“不会被窃听的手机”！机价现在海外更直接被爆炒至1.7万元一台！

据彭博社报道，请专业人士拆解后发现华为Ma­te60国产化率高达90%，而苹果手机的国产化率只有25%。据报道华为Ma­te60除了使用海力士储存卡外，更证实了最核心的麒麟9000S芯片是中芯国际生产的7nm芯片。中芯用较为老旧的AS­ML 光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻，实现了7纳米制程芯片！

彭博社的新闻一出，千亿市值的中芯国际直线拉升，港股在A股收盘后，继续大涨，当天收涨11%。这则消息无疑对中芯国际及中芯国际产业链都是巨大利好。

华为ma­te60用的是麒麟9000s芯片，中芯国际代工的N+2技术，采用AS­ML浸润式DUV 1980Di (光刻机)，多重曝光，生成的7nm工艺。中芯国际通过多重光刻技术，实现了MA­TE60的完全国产化，是国产半导体行业的里程碑；

二、逻辑：

当光刻机性能不足时，多重曝光是变相提升芯片制程的唯一办法

不同型号光刻机有着相对应的光刻精度，比如AS­ML的1980Di光刻机，适合制造28nm，但引入“多重曝光”技术后，1980Di型号光刻机也可以生产14nm，甚至7nm制程芯片，根据公开信息，1980Di 正是中芯国际唯一不受管制的AS­ML 光刻机，设备和禁令是呆板的，但人是灵活的，在如此旧款的1980Di 光刻机上，中芯国际硬是利用多重光刻技术实现突破，造出了7nm！

这意味着在美国制裁高端光刻机的背景下，通过低端光刻机+多重光刻技术可以弯道实现7nm芯片

什么是多重曝光？

为了追求更高的图形密度和更小的工艺节点，在普通的涂胶-曝光-显影-刻蚀工艺的基础上开发了多重曝光技术，如LE­LE（li­t­ho-et­ch-li­t­ho-et­ch）、SA­DP（se­lf al­i­g­n­ed do­u­b­le pa­t­t­e­r­n­i­ng）。LE­LE技术将给定的图案分为两个密度较小的部分，通过蚀刻硬掩模，将第一层图案转移到其下的硬掩模上，最终在衬底上得到两倍图案密度的图形；SA­DP技术通过沉积和刻蚀工艺在心轴（ma­n­d­r­el）侧壁上形成间隔物，经由额外的刻蚀步骤移除心轴，使用间隔物定义最终结构，使得特征密度增加了一倍。
根据华安电子研报，先进光刻机受限的背景下，先进制程扩产生产需要多重曝光技术反复涂胶-光刻-显影-刻蚀等工艺流程以达到更小线宽，而每次曝光都需要重新清洗后进行涂胶显影工艺。

三、受益方向

关键词就是反复清洗-涂胶-光刻-显影-刻蚀工艺，其中受益的就是清洗涂胶显影设备以及在反复清洗-涂胶-光刻-显影-刻蚀工艺中使用的清洗设备耗材、湿化学品，也将需要反复进行以上工艺，将大量增加光刻胶、湿化学品和设备清洗量。

多重曝光技术，虽然弥补了光刻机性能落后的短板，但是代价是极大的增加了成本，每一次光刻机处理，都要消耗一次光刻设备清洗处理。

毫不夸张的说，多重曝光技术就是中国芯片解决卡脖子问题的关键核心。7nm技术攻克，就可以满足绝大部分的芯片制造需求，多重光刻技术带来的产业链环节耗材增量体现在以下几方面：

❶、N次光刻清洗

❷、湿化学品

❸、加倍特种气体

❹、高质量Arf光刻胶及高要求掩膜版

❺、上游耗材

四、个股梳理

❶半导体的光刻清洗设备:

蓝英装备300293

荷兰阿斯迈尔公司宣布继续向中国出口更先进DUV光刻机，对蓝英装备型成重大利好，因为蓝英装备子公司为全球唯一指定AS­ML公司光刻机相关设备配套清洗设备，蓝英装备的主营业务包括:

①.工业清洗系统及表面处理业务和智能装备制造业务两个板块，工业清洗系统及表面处理业务拥有三大核心业务板块：国内半导体制造通用多件清洗业务、专用单件清洗业务和精密清洗业务，智能装备制造业务有橡胶智能装备、数字化工厂和电气自动化业务及集成三个部门。
②、子公司UC­M­AG主要为光学和精密仪器行业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PVD、CVD涂层前清洗等典型的清洁度要求最高的应用领域，公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备及解决方案。凭借行业领先的技术实力，UC­M­AG为AS­ML（荷兰光刻机制造商阿斯麦公司）及其供应商提供极紫外光刻机（EUV）的光学系统相关关键部件的清洗设备。
富乐德(sz301297）

半导体设备洗净服务+显示面板设备清洗+次新股

①、公司是国内泛半导体设备精密洗净领先服务商，业务涵盖半导体设备洗净服务、显示面板设备清洗服务及半导体设备维修服务三大板块，目前已经掌握了成熟的28/14纳米制程PVD部件清洗再生技术，成功打破了日韩和欧美国家技术垄断。
②、根据芯谋研究发布的《国内泛半导体设备零部件洗净服务行业发展研报》(中国大陆地区)，公司精密洗净等业务市场占有率处于国内领先地位。
③、客户端与英特尔、台积电、京东方等头部客户建立了合作关系，中芯国际为公司第三大客户。
④、公司所提供的半导体设备维修服务主要为HS翻新服务，主要是为CMP设备研磨头进行清洗、配件更换维修再生服务。

❷湿化学品:

格林达603931

根据公司的招股书，公司的湿电子化学品在半导体领域的应用，主要集中在集成电路（芯片）和分立器 件晶圆的加工方面要用途为清洗、显影、蚀刻、剥离几类。格林达作为光刻胶湿化学品的龙头公司，将充分增量受益麒麟9000s 多重曝光工艺。

❸半导体掩膜版:

冠石科技605588:

冠石科技为新玩家并直接开始做半导体掩膜版(28-45nm)。
冠石科技拟新建掩膜版项目，建设期5年，全尺寸布局，主要集中在28-45nm，是国内目前最先进的掩膜版产商，预计明年下半年开始投产45nm，1000片/月，1.2w片/年。技术团队全球顶级，掩膜版总负责人出身张汝京团队（陈新晋），张汝京是中芯国际创始人（青岛芯恩也是由他创立），中国芯片之父，同时项目的生产技术人员有台积电背景，也代表着全球最强的代工技术之一。项目技术风险几乎为零，所有技术难度都已经打通，等设备进场即可产出！

❹高端光刻胶:

彤程新材（北京科华）、华懋科技（徐州博康）、南大光电、晶瑞电材、上海新阳！

❺电子特气:

金宏特气、华特气体、凯美特气

❻光引发剂:

久日新材、扬帆新材、强力新材、固润科技

❼上游树脂材料:

容大感光、强力新材、同益股份

❽光刻机:

张江高科600895（持股中国最先进光刻机制造的上海微电子装备10%的股份，上海微电子是国产光刻机龙头）