目前，全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，即使我国现在独创的光刻厂模式，也是基于DUV和EUV技术，那有没有其他的路可走？实际上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻技术。

 纳米压印技术首先通过接触式压印完成图形的转移，相当于光学曝光技术中曝光和显影工艺过程，然后利用刻蚀传递工艺将结构转移到其他任何材料上。它就像盖章一样，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图案，经过脱模就能够得到一颗芯片。

我们常说的光刻机，也就是基于DUV和EUV技术的光刻机，从Reticle（掩膜版）到晶圆是4：1的缩小比例，而纳米压印技术下的Reticle选用特殊加工方法，从Reticle到晶圆是等比例的。

纳米压印光刻不仅可以制造分辨率5nm以下的高分辨率图形，还拥有相对简单的工艺（相比光学曝光复杂的系统或电子束曝光复杂的电磁聚焦系统）、较高的产能（可大面积制造）、较低的成本（国际权威机构评估同制作水平的纳米压印比传统光学投影光刻至少低一个数量级）、较低的功耗、压印模板可重复使用等优势。因此，我们是否可以探索纳米压印替代EUV、DUV的可能性？

纳米压印技术实际应用

1、存储芯片的制作，相关公司如凯侠、佳能、东芝、SK海力士和三星等。

2、CPU制造，纳米压印技术能够实现高分辨率的图案转移，制造出具有复杂结构的芯片。这将有助于提高CPU的性能和功耗效率，满足市场需求。

3、在模拟电路、数字电路、功率器件等领域，纳米压印技术能够实现降本增效，有助于推动这些领域的发展。

纳米压印相关概念：

利和兴：一代全自动纳米压印设备仍处研发验证阶段。

 

苏大维格：苏大维格在互动平台表示，根据相关资讯，佳能等国际厂商拟尝试通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产，公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。

 

美迪凯：用纳米压印开发了光学模组技术。

 

腾景科技：公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。