一、主营业务
公司主营业务为高性能溅射靶材的研发、生产和销售，主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶等，产品可广泛应用于半导体显示、触控屏、建筑玻璃、装饰镀膜、集成电路封装、新能源电池和太阳能电池等领域，是各类薄膜工业化制备的关键材料。公司主要代表性客户包括京东方、华星光电、惠科、超视界、彩虹光电、深超光电和中电熊猫等半导体显示面板行业主流厂商，超声电子、莱宝高科、南玻集团、长信科技和 TPK（宸鸿科技）等知名触控屏厂商，AGC（旭硝子）、南玻集团、Pilkington（皮尔金顿）和旗滨集团等建筑玻璃龙头厂商。此外，公司持续推动产品研发与技术升级，不断拓展产品应用范围，目前已进入越亚半导体、SK Hynix（海力士）等知名半导体厂商的集成电路封装材料供应体系和万顺新材、宝明科技、腾胜科技等新能源电池复合集流体正负极材料和镀膜设备核心厂商的供应链，并应用于中建材等大型新材料开发商的太阳能薄膜电池中。
公司技术研发实力领先，核心技术自主可控。自设立以来，公司即专注于高性能溅射靶材技术和工艺的研发创新，现已掌握一系列具备自主知识产权的核心技术。截至本招股说明书签署日，公司拥有 128 项授权专利，其中发明专利 27 项，实用新型专利 101项，覆盖溅射靶材生产的各个关键环节。公司 2018 年获得第七届中国创新创业大赛全国总决赛新材料行业成长组二等奖，自 2018 年起被连续认定为国家级高新技术企业，2020 年被认定为“广东省知识产权示范企业”，2021 年被认定为国家级专精特新“小巨人”企业、中央财政支持第二批重点“小巨人”企业，2022 年被认定为“2022 年度国家知识产权优势企业”、获得中国生产力促进中心协会颁发的“生产力促进奖”，公司全资子公司东莞欧莱 2022 年被广东省工业和信息化厅认定为“2022 年创新型中小企业”，2023 年东莞欧莱被广东省工业和信息化厅认定为“广东省专精特新中小企业”。公司拥有“博士后科研工作站”、“广东省博士工作站”、“广东省高性能靶材工程技术研究中心”以及高纯材料研发中心、薄膜技术研发中心等多个实验室。公司承担了“高性能氧化物 TFT 材料与关键技术研发及产业化”和“高迁移率氧化物半导体溅射靶材研究及显示应用”等多个国家、广东省、韶关市重点专项项目、研发计划或专项资金项目。
公司产品类型多样、综合性能突出、质量稳定可靠，在业内树立了良好的品牌形象。公司主要产品涵盖多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶，并可根据下游客户需求提供 40 余种金属/非金属单质靶材、合金靶材和陶瓷化合物靶材。公司主要产品综合性能突出，纯度、致密度、晶粒度、绑定焊合率等多项核心技术指标已达到行业领先水平，具有较高的市场美誉度和品牌认可度。公司 G8.5 旋转铜靶和旋转铝靶在国内首家通过客户验证，钼铌合金靶材、氧化铌靶、钼管靶材分别于 2017 年、2018 年、2019 年被认定为“广东省高新技术产品”，2019 年公司旋转铜靶、旋转铝靶获得“2018 年度中国新型显示产业链发展突出贡献奖”，2020 年公司 G10.5 平面铜靶获得“2019 年度中国新型显示产业链发展突出贡献奖”，2021 年公司 G8.5 代平面铜靶材、大尺寸钼铌平面靶被认定为“韶关市高新技术产品”，2022 年公司获得韶关市人民政府颁发的“韶关市政府质量奖”，2023 年公司 TFT 高纯铝旋转靶材被认定为“广东省名优高新技术产品”，平板显示用铜靶材被评为“2022 年省级制造业单项冠军产品”，钼基合金靶材获得“2022 年度中国新型显示产业链贡献奖创新突破奖”。根据中国电子材料行业协会的证明，按销售额统计，2021 年公司平面显示用铜靶产品出货在国产厂商中排名位居前列。
公司持续突破创新，实现了重点行业上游关键材料的国产化，提升了我国半导体显示产业链的自主可控程度。公司高度重视技术研发，不断投入研发资源用于技术创新和工艺改进，及时推出符合市场发展趋势、满足客户需求的产品。公司精耕于半导体显示用溅射靶材行业多年，系国内较早进入半导体显示用溅射靶材行业的企业之一，在半导体显示用溅射靶材领域积累了丰富的技术经验。公司现已实现 G5、G6、G8.5、G8.6、G10.5、G11 等世代线半导体显示用溅射靶材的量产供货，报告期内，公司溅射靶材运用于 G8.5 以上高世代产线半导体显示产品中的销售收入占半导体显示用溅射靶材销售收入的比例均超过 95%。公司铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶等主要产品已批量运用于京东方、华星光电、惠科、超视界、彩虹光电、深超光电和中电熊猫等下游知名半导体显示面板厂商 TFT-LCD 产品中，并进一步开拓了在 Mini LED 和 Micro LED 等新型半导体显示产品中的应用。根据中国电子材料行业协会的证明，公司 G8.5、G10.5平面铜靶、G10.5 平面 ITO 靶等多项产品的核心技术指标已达到国内外同类产品先进水平，实现进口替代，为实现我国显示材料国产配套做出了突出贡献。2022 年合肥欧莱被认定为“2022 年度新认定合肥市集成电路、新型显示、生物医药、网络与信息安全重点产业链企业”。
未来，公司将秉承“以客户为中心”的经营理念，全面贯彻“以屏为依托，多前沿领域深入发展”的战略方针，通过持续加大技术研发投入，扩大现有生产制造规模，积极布局上游高纯金属材料，拓展产品下游应用领域，巩固并持续提升公司高性能溅射靶材在技术、产品、市场等方面的行业领先地位和核心竞争力，力争在全球高性能溅射靶材领域内成为具有一定市场竞争力和行业影响力的知名厂商。
2、公司主要产品情况
公司主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶、ITO 靶等，除上述产品外，公司其他类靶材包括铝钕合金靶、锌锡合金靶、硅铝合金靶、镍铬合金靶、钛靶等 40 余种金属/非金属单质靶材、合金靶材和陶瓷化合物靶材。公司溅射靶材可广泛应用于半导体显示、触控屏、装饰镀膜、建筑玻璃、集成电路封装、新能源电池和太阳能电池等领域。公司主要产品情况如下：
注：公司其他类靶材共 40 余种，上表仅列示金额较大、具有代表性的其他类靶材。
3、公司主营业务收入构成
报告期内，公司主营业务收入的产品构成情况如下：
二、发行人所处行业基本情况
（一）所属行业及确定依据
公司主要从事高性能溅射靶材的研发、生产和销售，报告期内公司主营业务收入占营业收入的比重分别为 94.24%、87.44%和 91.01%，均超过 50%。根据《战略性新兴产业重点产品和服务指导目录（2016 版）》，公司主营业务产品属于“1 新一代信息技术产业”之“1.3 电子核心产业”之“1.3.2 新型显示器件”之“新型显示材料”之“高纯度靶材”。根据《国民经济行业分类》（GB/T4754-2017），公司所处行业属于“C39 计算机、通信和其他电子设备制造业”的子行业“C3985 电子专用材料制造”，为国家发改委颁布的《产业结构调整指导目录（2019 年本）》规定的鼓励类产业。根据《战略性新兴产业分类（2018）》，公司所处行业属于“3 新材料产业”之“3.2 先进有色金属材料”之“3.2.9 其他有色金属材料制造”之“3.2.9.2 高性能靶材制造”。
三、行业情况
1、溅射靶材行业基本情况
（1）薄膜制备技术发展历程
薄膜材料由原子或分子在基板（例如光学玻璃等）表面凝结、形成及生长而成。利用镀膜工艺镀制薄膜后，可使材料表面获得新的复合性能并实现新的工程应用，赋予材料表面新的机械功能、装饰功能和声、电、光、磁、热及其转换等特殊功能，从而改善产品原有性能、提高产品质量、延长产品寿命。
薄膜材料产业发展早期，受制于制备技术及材料性能，薄膜材料仅应用于抗腐蚀、制造镜面等用途。随着制备薄膜材料的真空系统、检测系统等技术的进步与发展，薄膜材料的性能大幅提升，应用领域亦迅速拓展。尤其是 20 世纪 50 年代以来，随着电子工业和信息产业的兴起，薄膜制备技术和薄膜材料在印刷线路板的大规模制备和集成电路的微型化等方面彰显优势。目前，薄膜合成与制备已经成为新材料研制不可或缺的重要手段之一，薄膜制备技术和薄膜材料在现代科技和国民经济的各个重要领域得到广泛应用，如航空航天、电子信息、医疗、能源、通信等。
真空镀膜技术是薄膜制备的基础，几乎所有薄膜材料的制备都需在真空或较低的气压条件下进行。按照工艺原理的不同，真空镀膜技术可分为 CVD（化学气相沉积）和PVD（物理气相沉积）。CVD 是一种通过气体混合的化学反应在基体表面沉积薄膜的工艺，对反应物和生成物的选择具有一定局限性。此外，由于化学反应需要在较高的温度下进行，基片所处环境温度一般较高，对基片材料的选取也具有一定限制。PVD 是一种通过物理方式在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术，沉积材料和基板材料的可供选择范围广泛、膜层厚度更易控制、附着力更强、适用范围更广，镀膜过程更加节能、安全、环保，目前已成为薄膜制备技术中的主流技术。
按照具体工艺及技术路线划分，PVD 真空镀膜技术主要包括真空蒸镀技术和真空溅射技术两大类。真空蒸镀镀膜工艺简单便利、操作方便、成膜速度快，在发展初期占据主流，但由于该技术无法蒸发难熔金属和氧化物材料、大尺寸基板材料镀膜适用性较差等因素，逐步被真空溅射技术取代。真空溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为各类薄膜工业化制备的主要技术之一。随着薄膜性能要求的不断提升，真空溅射技术持续升级迭代，目前应用最广泛的是磁控溅射技术。
磁控溅射技术中使用的镀膜材料主要为溅射靶材，根据采用的溅射靶材形状的不同可分为平面磁控溅射技术和旋转磁控溅射技术。磁控溅射技术是在真空环境中通过电场加速离子后形成具有高动能的离子束流碰撞固体表面，固体表面的原子被溅射出并离开固体沉积在被镀膜体表面，被离子高速碰撞的固体（即：溅射靶材）就是产生薄膜的来源，在沉积过程中就像被射击的靶子一样。
（2）溅射靶材的结构及分类
溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
溅射靶材主要由靶坯和背板（或背管，下同）构成。靶坯系溅射靶材中的核心部分，是溅射镀膜过程中高动能离子束流轰击的目标材料，靶坯被离子撞击后，表面的原子被溅射出来并沉积于基板表面形成薄膜。背板主要用于固定支撑靶坯材料、导热、导电，一般由金属材料制成，因溅射靶材需安装在专用的溅射镀膜设备内完成溅射过程，设备内部为高电压、高真空的工作环境，多数靶坯的材质较软、脆性高、导电导热性较差等，不适合直接安装在设备内使用，因此需与背板绑定。
随着磁控溅射镀膜技术的不断进步和下游应用需求的持续发展，溅射靶材采用的材料愈发多样化，目前用于制备溅射靶材的材料包括单质金属/非金属、合金、陶瓷化合物等。金属/非金属单质靶材是由同种金属/非金属元素组成的具有较高纯度及特定微观结构的靶材，例如：铜靶、铝靶、钼靶、钛靶、硅靶，石墨靶、硼靶等，是制备电极布线膜、阻挡膜、粘合膜及反射膜等的重要原材料；合金靶材是由两种或两种以上金属或非金属合成的具有一定金属特性的靶材，例如：钛铝靶、镍铬靶、钼铌靶等，合金靶材具有优于单质靶材的某些特异性质，能够满足新型功能膜系的设计开发需求；陶瓷化合物靶材是由一种或几种氧化物经高温烧结而成的具有陶瓷结构和特性的靶材，例如：ITO 靶、IZO 靶、AZO 靶等，陶瓷化合物靶材具有高强度、高熔点、化学稳定性好、耐腐蚀等优点，但塑性变形能力差，易发生脆性破坏，大尺寸靶材制备难度较大。
溅射靶材必须配套专用的溅射镀膜设备方可进行溅射镀膜。溅射靶材按形状可分为平面靶和旋转靶，平面靶指具有一定厚度的长靶、方靶、圆靶等，由靶坯和背板绑定而成，在溅射过程中，靶坯与基板平行相对，背板下方放置磁铁，在靶坯与基板之间形成电磁场。旋转靶即管状溅射靶材，管靶内放置磁铁，向基板方向形成电磁场。根据是否需要绑定背板或背管，溅射靶材可分为一体靶和绑定靶，一体靶通常为金属单质靶材，制备过程中由金属直接成型，无背板或背管、无需绑定、可直接安装使用；绑定靶通常为非金属单质和陶瓷化合物靶材，需与背板或背管绑定后才可溅射。
（3）溅射靶材行业在产业链中的地位和作用，与上、下游行业之间的关联性
溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造是溅射靶材产业链中的关键环节，溅射靶材的产品质量、性能指标直接决定了终端产品的品质和稳定性。
溅射靶材产业链中，上游金属提纯环节主要是将自然界含有杂质的金属进行提纯处理，从而满足靶材制造环节的生产需求；靶材制造环节所需工序精细繁多，同时需要根据下游应用领域的性能、需求进行特有的工艺设计；溅射镀膜环节主要是将溅射靶材安装在专用的溅射镀膜设备中完成溅射反应，制备出具有导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导、耐磨、装饰等特性的膜层，并进行元器件封装；终端应用是利用完成封装的元器件生产面向最终用户的产品。
作为各类薄膜工业化制备的关键材料，溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域，各应用领域对溅射靶材的制备技术、产品性能等要求各异。
溅射靶材是制备半导体集成电路的核心材料之一，集成电路中每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中介质层、导体层甚至保护层均需用到溅射镀膜工艺。自集成电路出现以来，集成电路产业一直遵循“一代装备、一代工艺、一代产品”的模式快速发展，芯片集成度不断提高，对制备集成电路的溅射靶材性能要求亦越来越高，半导体集成电路用溅射靶材是目前行业内技术难度最高的领域。
平面显示是溅射靶材需求规模最大的市场应用领域，镀膜是现代平面显示产业的基础环节，为保证大面积膜层的均匀性，提高生产效率和降低成本，几乎所有类型的平面显示器件都会使用大量溅射靶材来制备各类功能薄膜，电视、电脑、手机、车载显示屏等终端产品的很多性能如分辨率、透光率等均与溅射薄膜的性能密切相关。相较于半导体集成电路，平面显示领域对溅射靶材的纯度和技术要求略低，但随着靶材尺寸的增大，对溅射靶材的均匀性、平整度、绑定焊合率等指标提出了更高的要求。
太阳能电池是溅射靶材未来发展潜力较大的应用领域之一，溅射靶材主要用于制备薄膜电池背电极以及 HJT 太阳能电池导体层。近年来，世界各国均加大力度扶持光伏产业，太阳能电池技术在全球范围内快速发展，从早期的单晶硅、多晶硅太阳能电池技术已发展到第三代太阳能技术—薄膜太阳能电池技术，溅射镀膜工艺是薄膜电池首选的制备方法。同时，为进一步提高光电转换效率和降低制造成本，HJT 太阳能电池技术等新兴太阳能电池技术不断涌现，太阳能电池的大幅应用及推广将推动溅射靶材市场需求快速增长。
此外，溅射靶材亦可广泛应用于信息存储、玻璃镀膜、装饰镀膜、工模具镀膜等领域。相对于半导体集成电路和平面显示领域而言，信息存储、玻璃镀膜、装饰镀膜等领域对溅射靶材纯度、晶粒晶向控制等方面的技术要求均较低，在满足产品品质及技术要求的前提下更关注成本、产能规模、供货稳定性及交期等。
2、全球溅射靶材行业发展情况
高性能溅射靶材伴随着半导体、平面显示、信息存储、微电子等产业的发展而兴起，涉及到电性、磁性、热性、反射率及颜色外观等多个技术特性，属于典型的技术密集型产业，生产技术、机器设备、工艺流程和工作环境要求非常严格，长期以来一直为国外垄断。20 世纪 70 年代以来，随着电子工业和信息产业技术创新的不断深化，美国、日本、欧洲等发达国家或地区相继出现了一批高性能溅射靶材生产厂商，相关厂商掌握核心技术以后，执行了非常严格的保密和专利授权措施，长期占据了全球溅射靶材市场的主导地位。根据统计，1990-1998 年，世界各国在美国申请的溅射靶材专利数量中，日本占比为 58%，美国为 27%，德国为 11%。此外，全球高端制造业的区域集聚特征使得上游高性能溅射靶材等关键材料市场份额进一步向发达国家或地区集中。
自 20 世纪 80 年代以来，以半导体集成电路、平面显示、信息存储、激光存储器、等为主的电子信息产业快速发展，技术工艺快速迭代更新，对制备相关产品的关键材料薄膜及溅射靶材的需求不断提升，例如：在半导体集成电路制造工艺中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线；在平面显示产业中，各种显示技术的同步发展，对溅射靶材的需求亦不断提升；在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新。下游应用领域的快速发展极大地促进了磁控溅射技术及溅射靶材行业的发展，新型溅射靶材的出现亦满足了各种新型电子元器件的技术及性能需求。
随着各类溅射薄膜材料在半导体集成电路、平面显示、信息存储等领域的广泛应用，下游领域对溅射靶材这一高附加值功能材料的需求不断增加，高性能溅射靶材市场规模日益扩大，呈快速增长态势。根据华经产业研究院的数据，2016-2021 年，全球溅射靶材市场规模从 113 亿美元上升至 213 亿美元，年复合增长率为 13.5%。未来，随着物联网、大数据、新型显示、太阳能电池、节能玻璃等新型基础设施和新型应用领域的发展，溅射靶材的终端应用领域将进一步扩大，全球溅射靶材市场规模仍将持续稳定增长。
凭借专利技术上的先发优势，以及雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量，美国、日本、欧洲等发达国家或地区的大型溅射靶材厂商占据了全球溅射靶材市场较高的市场份额。以 JX 金属、霍尼韦尔、东曹和普莱克斯等为代表的大型跨国企业成立较早，历史悠久，发展成熟，囊括了金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等全产业链环节。相关企业凭借先发优势和技术研发优势主导着产业的发展方向和技术革新，在溅射靶材领域优势明显，目前合计占据了全球 80%左右的市场份额。另外，三井金属、住友化学、爱发科、世泰科、攀时等资金实力雄厚、技术水平领先、产业经验丰富的跨国公司在各自的优势靶材领域处于市场领先地位。
3、中国溅射靶材行业发展情况
相比于国外，我国溅射靶材行业起步较晚。20 世纪 90 年代，为发展薄膜技术及薄膜材料，国家计委、国家科委、国家自然科学基金委及地方政府相关部门发布了一系列政策支持镀膜及相关材料的发展，在真空镀膜、低温、压力容器等方面积累了一定的技术基础，为本土溅射靶材企业的发展创造了良好的研发基础和产业化条件。受限于技术、下游应用市场尚处起步阶段等因素，早期我国溅射靶材行业发展较为缓慢，具备规模化生产能力和较强研发实力的企业较少，溅射靶材主要应用于中低端产品。
进入 21 世纪，我国宏观经济进入高速发展期，电视、电脑、手机等消费电子产品市场迅速发展，相关终端应用领域市场规模不断扩大，从而推动了我国本土溅射靶材企业和国内溅射靶材市场的快速发展。经过多年的发展，国内溅射靶材企业已经取得了长足的发展和进步，国产高纯、高性能溅射靶材企业通过持续的自主研究开发逐渐突破关键技术，并不断扩大生产制造规模，在技术开发、产品性能、生产规模、产品质量、市场品牌等方面的市场竞争力正在不断稳步提升，打破了溅射靶材行业长期被境外大型厂商垄断的不利局面。
近年来，随着国内平面显示和半导体集成电路产业迅速发展，下游产业逐步向国内转移，带动了国内溅射靶材行业的快速发展，我国溅射靶材产业逐渐从单一的规模增长转变为进口替代的结构化增长。以江丰电子、阿石创、有研新材、隆华科技、先导薄膜、映日科技以及本公司等为代表的一批具有较强市场竞争力的本土靶材企业成功进入了国内外知名平面显示、半导体集成电路等下游企业的供应链环节，对境外厂商在国内的市场份额形成了进口替代，并实现了部分出口，保障了国内重点行业上游关键原材料的自主可控及供应安全。
根据前瞻产业研究院的统计，2017-2020年中国高性能溅射靶材行业市场规模由185亿元增长至 283 亿元，年复合增长率为 15.2%。未来，伴随着显示面板产能转移、半导体国产化进程加速以及太阳能电池市场景气度不断上升，下游市场对高性能溅射靶材需求量将不断增加。2021-2026 年我国高性能溅射靶材市场前景广阔，预计 2026 年市场规模将增长至 653 亿元，年复合增长率将达到 15.0%。
4、溅射靶材细分行业发展情况
溅射靶材下游应用领域广泛，包括平面显示、半导体集成电路、新能源电池和太阳能电池等战略新兴产业，以及较为传统的玻璃镀膜、装饰镀膜、工具镀膜等产业，其中平面显示是各下游应用领域中市场规模最大、占比最高的领域，其次为信息存储、太阳能电池和半导体集成电路领域。溅射靶材在各细分应用领域市场的发展情况如下：
（1）平面显示用溅射靶材市场发展情况
平面显示产业链主要由上游设备制造、原材料和零组件产业，中游显示面板、触控屏等配套电子器件和模组的生产制造，下游电视、显示器、笔记本电脑、平板电脑、手机等各类显示终端应用构成。平面显示领域中，溅射靶材主要应用于显示面板和触控屏的生产制造环节。
显示面板是一种将电子信号通过特定的传输设备显示到屏幕上再反射到人眼的显示工具，主要包括 LCD（液晶显示器）和 OLED（有机发光显示器），其中 LCD 主要应用于大尺寸电视、电脑、仪表显示屏等领域，是显示面板的最主流应用方向；OLED主要应用于高端智能手机、智能穿戴设备等中小尺寸产品领域。触控屏是触控显示器件中承担触控功能的重要组件，是一种可接收触头等输入讯号的感应式显示装置，主要应用于智能手机、平板电脑、智能手机、平板电脑、车载触控显示屏等领域。
显示面板和触控屏多由金属电极、透明导电极、绝缘层、发光层组成，为保证大面积膜层的均匀性，提高生产率和降低成本，溅射镀膜技术越来越多地被用来制备该类膜层。平面显示用溅射靶材纯度要求一般在 4N 以上，靶材类型主要包括铜靶、铝靶、钼靶和 ITO 靶等，部分平面显示厂商因溅射镀膜设备和工艺路线不同亦会在生产过程中使用钛靶、钽靶、铌靶、铬靶、银靶等类型靶材。
近年来，国内平面显示用溅射靶材市场在全球显示面板出货面积增长、平面显示产业转移、显示面板厂商采购国产化替代趋势等因素的带动下高速增长，市场前景可期。根据前瞻产业研究院的统计，2014-2020 年中国平面显示用溅射靶材市场规模从 55 亿元增长至 150 亿元，年复合增长率达到 18.2%；2021 年和 2022 年我国平面显示用溅射靶材行业市场规模分别为 177 亿元和 209 亿元；未来，平面显示用溅射靶材行业市场规模预计仍将快速增长，预计 2026 年将达到 395 亿元。结合显示面板生产制造中各类溅射靶材的使用情况、铜制程工艺在显示面板中的发展趋势等经验数据和行业情况估算，平面显示用铜靶约占平面显示用溅射靶材市场规模的 20%，按此测算，2022 年我国平面显示用铜靶的市场规模约为 41.80 亿元。
（2）半导体集成电路用溅射靶材市场发展情况
半导体集成电路产业链主要包括芯片设计、晶圆制造、封装测试、半导体材料、半导体设备、EDA 工具以及 IP 授权等环节。半导体集成电路领域中，溅射靶材主要应用于晶圆制造和芯片封装环节。
随着信息技术产业不断发展，对半导体集成电路集成度的要求越来越高，电路中单元器件尺寸不断缩小，元件尺寸由毫米级到微米级，再到纳米级。每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中，介质层、导体层甚至保护层均需要使用溅射镀膜工艺，溅射靶材是制备集成电路的核心材料之一。半导体集成电路领域对溅射靶材的纯度要求极高，一般在 4N 或 5N，甚至 6N 以上，靶材类型主要包括铝靶、钛靶、铜靶、钽靶、镍靶、钨靶、钼靶等。
半导体集成电路用溅射靶材品种繁多，需求量较大，根据 SEMI 统计，溅射靶材在全球半导体制造材料和封装测试材料市场的占比均接近 3%。随着半导体产业快速发展，中国半导体集成电路用溅射靶材市场将保持高速增长态势。根据前瞻产业研究院的统计，2013-2020 年中国半导体集成电路用溅射靶材市场规模从 9.34 亿元增长至 17 亿元，年复合增长率为 8.9%，其中，晶圆制造用溅射靶材市场规模为 5.6 亿元，封装测试用靶材靶材市场规模为 11.4 亿元。未来，半导体集成电路用溅射靶材行业市场规模整体保持稳定增长，预计 2026 年将达到 33 亿元。
（3）新能源电池用溅射靶材市场发展情况
新能源电池包括铅酸电池、镍铬或镍氢电池、锂离子电池、钠离子电池和燃料电池等。锂离子电池具有放电过程中能量密度高、工作电压高、自放电小、无记忆效应、循环寿命长、充电快、重量轻、体积小、无污染等优势，目前应用最为广泛。
新能源电池处于新能源产业链的中游，是新能源产业链的核心环节。以锂离子电池为例，其上游为正极材料、负极材料、铜箔、铝箔、隔膜及电解液等材料，上述材料共同构成电芯，并与电池管理系统（BMS）和配件经 Pack 封装组成锂离子电池包，最终应用于新能源汽车、3C 数码产品、储能应用和电动自行车等领域。
集流体是锂离子电池的重要结构，承担承载活性物质和汇集微电流的重要角色。具体而言，其功能主要是将电池活性物质产生的电流汇集起来以便形成较大的电流对外输出，因此集流体应与活性物质充分接触，内阻应尽可能小。金属箔是锂离子电池集流体的主要材料，铜箔通常为负极集流体，铝箔通常为正极集流体。早期锂离子电池多采用生产工艺复杂、成本高的压延铝箔、铜箔作为正负极集流体。随着技术工艺的发展，电解铜箔以其生产工艺相对简单、效率高、成本低等优势逐步替代压延铜箔。通过压延、电解方式制备的传统集流体使用纯金属制备，存在成本高、重量重、难以减薄、安全隐患高等问题。
复合集流体是以 PET 等高分子材料膜层作为基膜，经过真空镀膜等工艺，将其双面堆积上铜、铝分子的复合材料。与传统集流体相比，复合集流体采用“金属-高分子材料-金属”三层复合结构，通过真空蒸镀、磁控溅射等方式在高分子 PET/PP 膜表面形成纳米级金属，再通过水电镀将金属层沉积增厚到 1μm 以上。复合集流体具有轻量化、高安全性、高能量密度、低成本等优势，未来将替代传统集流体，发展成为新能源电池行业的主流产品，符合新能源电池高能量密度、安全性、轻量化等发展趋势。
溅射靶材是复合铜箔、铝箔生产制备中的必备原材料，主要应用于磁控溅射过程中，其纯度要求一般在 4N 以上。根据中信证券的预测，若仅考虑电解铜箔在锂离子电池中的应用，2025 年预计电解铜箔需求量可达 106.7 万吨，假设 2025 年复合铜箔在锂离子电池领域的渗透率达到 20%，2025 年全球复合铜箔市场空间可达 290 亿元，未来市场空间广阔，发展前景良好。
（4）太阳能电池用溅射靶材市场发展情况
光伏产业链分为硅料、硅片、太阳能电池、组件、光伏发电系统五个环节，其中太阳能电池能够通过光电效应直接把光能转换成电能，是光伏产业链的核心环节。
具体来看，太阳能电池可以分为晶硅电池与薄膜电池，其中晶硅电池主要包括单晶PERC 电池、多晶 PERC 电池等；薄膜电池主要包括 CdTe（碲化镉）薄膜电池、CIGS（铜铟镓硒）薄膜电池等。此外，为进一步提高光电转换效率和降低制造成本，HJT 太阳能电池技术等新兴太阳能电池技不断涌现，HJT 太阳能电池生产需大量应用溅射靶材，是太阳能电池用溅射靶材未来市场需求的主要增长点。
溅射靶材主要应用于薄膜电池的背电极环节以及 HJT 太阳能电池的导体层，其中薄膜电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶、ITO 靶、AZO 靶等，HJT太阳能电池则主要使用 ITO 靶制备其透明导电薄膜，纯度要求一般在 4N 以上。
太阳能作为可再生能源的重要组成部分，系我国未来能源发展的主要趋势。随着光伏累计装机容量的持续提升，中国太阳能电池用溅射靶材市场规模亦有望持续高速增长。根据前瞻产业研究院的统计，2013-2020 年中国太阳能电池用溅射靶材市场规模从3.5 亿元增长至 31.7 亿元，年复合增长率达到 37.0%；未来，太阳能电池用溅射靶材行业市场规模将进入快速增长阶段，预计 2026 年将达到 83 亿元。
（5）其他领域
①玻璃镀膜
溅射靶材在玻璃镀膜领域主要用于制备低辐射玻璃，通过在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系，达到节能、控光、装饰的作用，主要应用于建筑、居室装修、汽车、制镜等领域，其中建筑领域应用量最大。
在建筑玻璃领域，低辐射玻璃是节能性能最好的窗用材料，与普通玻璃及传统的建筑玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性，能有效降低建筑物能耗，广泛应用于建筑门窗及室外幕墙工程。根据统计，建筑玻璃门窗能耗占建筑总能耗的 23%，是建筑节能的重点方向之一，2020 年国内低辐射玻璃的渗透率为 12%，德国、韩国等发达国家渗透率则高于 90%，未来国内低辐射玻璃在建筑领域渗透率有望不断提升。近年来，随着政策扶持和节能环保需求的不断提升，几乎所有大型玻璃深加工企业都在快速增加低辐射玻璃生产线，带动了溅射靶材等上游关键原材料的快速发展。
低辐射玻璃镀膜常用的溅射靶材包括银靶、铬靶、钛靶、镍铬靶、锌锡靶、硅铝靶、氧化钛靶等，纯度一般在 3N-4N 之间。
②装饰镀膜
溅射靶材在装饰镀膜领域主要用于制备手机、手表、眼镜等产品的表面膜层，不仅起到美化色彩的作用，同时也具有耐磨、耐蚀等功能，其效果直接影响终端消费者的体验感和满意度。
在装饰镀膜的下游应用领域中，智能手机等消费电子产品是更新迭代周期最快的行业，终端厂商产品的竞争已由原先的功能升级竞争转为性能、美感、体验度等全方面竞争，生产厂商通常将最先进的表面处理技术应用在消费电子产品上。随着人民生活水平的不断提高，真空溅射镀膜逐渐成为目前常用的表面处理方法之一，塑胶、玻璃、陶瓷，和不锈钢中框均采用真空溅射镀膜法，装饰镀膜用溅射靶材的需求也日益扩大。
装饰镀膜常用的溅射靶材主要包括铬靶、钛靶、锆靶、镍靶、钨靶、钛铝靶、不锈钢靶等，纯度一般在 3N 左右。
③工具镀膜
溅射靶材在工具镀膜领域中主要用于制备工具的表面涂层，涂层作为化学屏障和热屏障，能够有效减少生产加工过程中工具基体材料的磨损，从而显著提高工具的使用寿命和被加工零件的质量。
随着高速、高效、高精度的现代制造加工需求不断升级以及高强度、高韧性、难加工新型材料的不断涌现，对高性能工具的需求量日益增加。以刀具为例，随着涂层技术不断进步与发展，耐热性、耐磨性优异的各类复合涂层材料大量出现，涂层刀具已成为现代切削刀具的标志，在刀具中的使用比例已超过 50%。目前，全球工具镀膜市场主要集中在欧美、日本等发达国家，发达国家机加工用刀具的镀膜比例已超过 90％。国内市场方面，随着国内制造业生产观念逐渐从“依靠廉价劳动力”向“改进加工手段提高效率”进行转变，以及机床市场的数控化转型升级，我国刀具等工具的镀膜比例也在不断提升，工具镀膜用溅射靶材的需求有望不断提升。
工具镀膜较为常用的溅射靶材主要包括铬靶、铬铝靶等，纯度一般在 3N5 左右。
5、溅射靶材下游行业发展情况
从市场规模、技术要求及未来发展趋势等方面来看，平面显示、半导体集成电路、太阳能电池系未来推动溅射靶材行业持续快速发展的重要下游应用领域。
（1）平面显示
①显示面板行业发展概况
1）显示面板技术主要类别
显示行业按照技术路线可以分为自发光显示和非自发光显示，目前非自发光显示技术主要为 LCD，自发光显示技术主要包括 CRT、PDP、OLED、LED 等。
根据显示原理的不同，CRT 和 PDP 属于真空显示，LCD、OLED、LED 等为半导体显示。半导体显示是指通过半导体器件独立控制每个最小显示单元的显示技术统称，其基本特征如下：一是以 TFT 阵列等半导体器件独立控制每个显示单元状态；二是主要应用 a-Si（非晶硅）、LTPS（低温多晶硅）、Oxide（氧化物）、Organic（有机材料）、Carbon Material（碳材料）等具有半导体特性的材料；三是主要采用半导体制造工艺。与半导体显示技术和产品相关的材料、装备、器件和相关终端产业链统称为半导体显示产业。
2）显示行业技术发展历程
自 CRT（阴极射线显像管显示）技术出现并应用以来，显示技术即呈现出多元化的演变进程，CRT、PDP、TFT-LCD、OLED 等技术皆因各自的技术特点、显示特性在不同的时期和产品领域实现了商业化应用。目前新型平面显示器件主要应用的技术路线包括 LCD、OLED、LED 等。在显示技术的发展历程中，LCD 由于技术的先进性实现了对 CRT 技术的颠覆性取代，而从 LCD 到 OLED 则是技术的延伸。LCD 和 OLED 均属于半导体显示技术，二者之间具有较高的技术相关性和原材料、设备、制程工艺等资源共享性。
从产业化应用方面来看，TFT-LCD 由于其技术成熟及工艺的持续改良，在显示性能、生产成本等方面均展现出较强的综合竞争力，广泛应用于电视、显示器、笔记本电脑、平板电脑、手机、商用显示等各类显示领域，目前主流的 LCD 面板均采用 TFT-LCD技术，TFT-LCD 在相当长的时期内占据显示行业的主导地位。但 TFT-LCD 属于非自发光技术，需要背光模组、彩色滤光片等组件，导致其显示屏厚度大于 OLED 面板，在部分对轻薄便携要求较高的移动终端的使用上缺乏优势。相比之下，OLED 具有自发光、厚度薄，可实现柔性显示等特性，但同时由于其自发光材料的不稳定性及高昂的生产成本，在大尺寸半导体显示领域，OLED 短期内还难以进入主流应用领域。目前全球只有LG Display、三星显示等为数不多的厂商具备 OLED 规模化量产供应能力，且面临着制程技术难、良率低、生产成本高等严峻考验。
此外，基于 LED 的 Mini LED 和 Micro LED 等新型半导体显示技术相继出现，预计将产生新的市场需求。
3）显示面板行业市场发展概况
伴随着下游电视、显示器、笔记本电脑、平板电脑、手机等终端应用需求增长，全球显示面板行业保持平稳发展趋势。根据群智咨询的数据，2021 年全球半导体显示面板产业产值达到 1,366 亿美元。2022 年，受国际形势动荡、全球经济下行压力加大等多重因素影响，显示面板终端产品需求有所减弱，全球半导体显示面板产业产值小幅下降至 1,005 亿美元。未来随着 4K/8K 技术的成熟、5G、物联网的推进对平面显示产业的拉动及商显、车载、工控、医疗等新兴应用场景的不断涌现，将持续推动半导体显示面板产业的发展，预计全球半导体显示面板产业产值仍将持续稳步上升。
从市场结构来看，在消费者对品质要求日益提高和需求多元化的趋势下，显示面板行业技术不断迭代升级，OLED、Mini LED、Micro LED 等新技术不断得到推广普及，但从总体市场结构来看，LCD 技术将长期占据主导地位。根据群智咨询的数据，2022年 LCD 和 OLED 的市场占比合计超过 99%，其中 LCD 面板产业产值为 651 亿美元，占比约为 64.78%，LCD 系半导体显示行业最主流、先进的技术方向之一。
从地区分布来看，全球显示面板制造行业经历了“日本发展—韩国超越—中国台湾崛起—大陆转移”的格局变迁。2010 年，中国大陆液晶面板产能仅占全球比重约 5%，伴随着京东方、华星光电、惠科等大陆显示面板厂商崛起，全球显示面板行业产能不断向中国大陆转移，2020 年中国大陆液晶显示面板产能占全球比重已经高达约 50%，而中国台湾、韩国和日本产能占比分别约为 25%、20%和 5%。
根据群智咨询数据，2022 年中国大陆显示面板厂商京东方、华星光电、惠科分别位居全球 LCD 电视面板企业出货量前三位，按出货量计算的市场份额分别为 24.7%、17.6%和 16.1%，占据了全球显示面板行业的绝对领先地位。
②触控屏行业发展概况
1）触控屏行业介绍
触控屏，又称为“触摸屏”、“触控面板”，触控屏在显示器件的基础上加入了触控功能，使用者只要用手指轻轻地触碰显示屏上的图符或文字就能实现对设备操作，从而摆脱了机械式的按钮或按键，具有设计美观、人机界面友好、操作简便、反应速度快、图形化用户接口、扩充性好、坚固耐用、节省空间等优点。
触控显示是在显示屏与触控屏的技术融合基础上，结合其他传感器技术发展起来的新兴行业。触控屏属于触控显示产业链的中游环节，产品技术含量高，工艺过程复杂，涉及光学、微电子、精密机械、化学、物理等多学科领域，上下游产业链长、价值量高。根据工作原理划分，触控屏可划分为电容式、电阻式、红外线式和表面声波式等类别，其中支持多点触控的电容式触控屏随着 2007 年苹果手机 iPhone 的推出，引领触控屏发展新潮流，并于 2011 年取代电阻式触控屏成为市场主流产品。
2）触控屏行业市场发展概况
触控屏作为触控显示制造业的重要组成部分，其发展情况与显示行业的市场状况及变动趋势息息相关。2009 年以来，显示面板产能呈现快速增长态势，中国大陆地区开始掀起高世代显示面板产线建设热潮。随着显示面板产能大幅提升，与之相配套的触控屏产能亦随之提升。触控屏应用领域不断扩大，目前已广泛应用于智能手机、便携电脑、车载触控、智能穿戴设备等领域。
下游应用领域分布方面，根据观研咨询数据，手机是触控屏最主要的下游应用领域，占比达到 85.0%，笔记本电脑与平板电脑占比为 9.0%，车载占比为 1.5%，目前消费电子是触控屏主要应用市场。未来，随着智能车载终端、智能家居设备、工业控制及其自动化、便携医疗等领域市场需求逐步释放，触控屏市场将迎来新的增长点。
过去 30 年来，移动通讯技术从 1990 年代仅能通话及传送短信的 2G，到 2001 年后可随时移动上网的 3G，到 2009 年开始提供高速在线浏览高画质影音服务的 4G，到如今各国积极投入建设支持更高数据速率、可减少延迟、提高系统容量和大规模设备连接的 5G 一路演进，手机也从早期硬件配置简易的功能机发展至兼具丰富的软硬件和完整系统的智能机，不断推动着显示技术和屏幕触控技术的发展。根据 IDC 统计，2016-2022年，全球手机出货金额从 4,260 亿美元增长至 5,879 亿美元，年复合增长率为 5.5%。未来，在信息通信、硬件制造技术创新和消费者升级换代需求的推动下，手机市场空间巨大，全球手机市场规模预计仍将不断扩大。
笔记本电脑领域作为以更新换代为主的成熟消费电子品类，绝大部分购买需要主要出于更新换代的目的。自 2011 年起，受智能手机和平板电脑等消费电子产品快速普及的冲击，2012 年至 2016 年笔记本电脑出货量整体下滑。2020 年以来，因新冠疫情导致居家办公与在线教育等需求爆发，笔记本电脑市场高速增长。未来，随着消费者对轻薄度、便捷性、待机时间等要求提高，笔记本电脑市场将更加丰富，不断细化消费者需求，超轻薄超窄边框笔记本电脑、搭配触控功能的笔记本电脑、兼具笔记本电脑和平板电脑特性的二合一笔记本电脑等产品不断涌现，成为笔记本电脑市场增长的主要动力。
车载市场是触控屏的重要下游应用市场，具备较大的发展潜力。随着消费者对行车安全、导航系统、车载娱乐等方面需求的增加，以及新能源汽车的快速崛起，车载市场对显示屏的需求快速提升。同时，自动驾驶及新能源汽车等新兴应用领域刺激车内显示屏向彩色化、多屏化、触控一体化等方向发展，中高端市场成长迅速。未来，车载显示器逐渐成为所有车辆的标配，对搭载触控功能的大尺寸车载显示面板需求已经成为汽车性能升级与价值增长的刺激因素。
随着显示面板产业国产化进程加快，触控屏产业亦呈现出较明显的向中国大陆进行产能转移的趋势。国产触控屏厂商凭借价格、成本、交期、服务等方面的优势在产业中逐渐占据竞争优势，京东方等各大显示面板厂商在玻璃基板、液晶材料、TFT 减薄、镀膜等方面基本实现了本土触控屏厂商的配套供应。在国内显示面板龙头企业带动下，产业聚集效应逐渐显现，产业链本土配套率越来越高，日本、韩国和我国台湾地区主要显示面板厂商，陆续将其部分触控屏的生产及相关精加工服务转移或外包给中国大陆地区触控屏厂商。触控屏的生产及相关精加工服务产能的转移驱动我国触控屏领域企业快速成长，目前已经形成了长信科技、莱宝高科、凯盛科技、超声电子、南玻集团等一批具有较强市场竞争力的本土企业。
（2）半导体集成电路
①行业整体情况
集成电路作为全球信息产业的基础，经过多年的发展，已经成为全球信息技术创新的基石。近年来，物联网、5G 通讯、自动驾驶和数据中心等新兴产业持续发展，带动了全球半导体集成电路需求增长。根据 WSTS 数据，2015 年至 2022 年，全球半导体行业销售额从 2,754 亿美元增长至 5,023 亿美元，年复合增长率为 8.96%。未来，从中长期来看，伴随着消费电子产品的技术迭代优化及更加广泛的普及，5G 商用化进程的推进、物联网智能汽车领域的兴起，全球集成电路行业有望持续稳定增长。
受益于半导体制造产能重心的转移、政府政策扶持等多重影响，中国半导体行业市场规模呈现持续增长趋势。根据中国半导体行业协会的统计，2010 年我国集成电路市场规模为 1,440.2 亿元，2021 年增长至 10,458.3 亿元，年均复合增长率为 19.8%。根据CSIA 预测，我国集成电路产业未来一段时间内仍将保持高速增长，预计 2022 年我国集成电路市场规模将达到 11,386 亿元。
②半导体材料行业发展情况
半导体材料是半导体产业的重要组成部分。从细分应用领域来看，半导体材料包括半导体晶圆制造材料与半导体封测材料。根据 SEMI 统计，自 2016 年至 2021 年，全球半导体材料市场规模从 430 亿美元增长至 643 亿美元，年复合增长率为 8.4%。2021 年半导体晶圆制造材料和半导体封测材料的市场规模分别为 404 亿美元和 239 亿美元，同比增长 15.5%和 16.5%。
（3）新能源电池
按照应用领域划分，新能源电池可以分为动力电池、3C 数码电池、储能电池和轻型车领域小动力电池。近年来，随着各国政策大力支持新能源汽车产业快速发展，动力电池市场需求持续高速增长，现已发展成为市场规模最大、占比最高的应用领域。根据EVTank 数据，2022 年，全球锂电池总体出货量 957.7GWh，同比增长 70.3%，其中动力电池出货量为 684.2GWh，同比增长 84.4%；储能电池次之，出货量为 159.3GWh，同比增长 140.3%。在政策和市场的双重驱动下，中国新能源电池产业迅速发展。根据EVTank 数据，2022 年，中国锂电池出货量达到 660.8GWh，同比增长 97.7%，超过全球平均增速。根据 GGII 预测，2025 年全球锂电池出货量将达到 2,140GWh，中国锂电池出货量将达到 1,747GWh，2021-2025 年全球锂电池出货量复合增长率达 41.69%。
2020 年 11 月，国务院办公厅印发《新能源汽车产业发展规划（2021-2035）》，提出到 2025 年新能源汽车新车销售量达到汽车新车销售总量的 20%左右，到 2035 年纯电动汽车成为新销售车辆的主流，公共领域用车全面电动化，推动中国新能源汽车行业加速发展。在新能源汽车销量快速增长的带动下，中国锂离子动力电池快速发展，根据 GGII数据，2022 年中国锂离子动力电池出货量达到 480GWh，实现翻倍增长。
随着“双碳”战略的提出，中国高度重视可再生能源的使用。配置储能因在有效维持用电稳定、提高用电效率、降低用电成本等方面可发挥重要作用，储能电池现已成为锂离子电池中极具市场发展潜力的应用领域。为促进我国储能产业的快速发展，2021年 7 月，发改委、国家能源局联合发布《关于加快推动新型储能发展的指导意见》（发改能源规〔2021〕1051 号），到 2025 年实现新型储能从商业化初期向规模化发展转变，装机规模达 3,000 万千瓦以上；到 2030 年，实现新型储能全面市场化发展。根据工信部《2022 年全国锂离子电池行业运行情况》，2022 年我国储能型锂离子电池产量已突破100GWh。
（4）太阳能电池
光伏产业是基于半导体技术与新能源需求而兴起的朝阳产业。近年来，受传统能源紧缺和日益严重的环境问题的影响，以太阳能、光伏等为代表的新能源行业凭借其在可靠性、安全性、广泛性、环保性等方面的诸多优势，已逐渐成为替代传统化石能源的主力军，全球各主要国家纷纷出台相关政策推动光伏产业的发展，全球光伏行业高速发展。根据 IRENA（国际可再生能源署）预测，2030 年全球太阳能光伏累计装机量预计将达到 2,840GW。在“碳达峰、碳中和”目标的推动下，我国光伏市场将迎来市场化建设的高峰，预计年均光伏装机新增规模在 70-90GW。
太阳能电池具有“光伏芯片”之称，太阳能电池封装为组件后安装于草地、戈壁、滩涂或屋顶之上，建成光伏电站，形成光伏发电系统。作为光伏发电系统的核心部件，太阳能电池行业市场规模不断扩大。根据 CPIA 统计，2017-2021 年全球太阳能电池片产量从 104GW 增长至 224GW，年复合增长率为 21.1%；同期，我国太阳能电池片产量从 72GW 增长至 198GW，年复合增长率为 28.8%，高于全球增速。目前，受益于产业链各环节技术进步，光伏发电成本将持续下降，全球光伏产业已由政策驱动发展阶段正式转入大规模“平价上网”阶段，光伏发电将成为具有价格竞争力的电力来源，迈入新的发展阶段，实现可持续发展。
太阳能电池可分为晶硅电池和薄膜电池。由于晶硅电池技术起步较早且光电转化效率高，多年来一直处于主导地位。晶硅电池发展早期，单晶、多晶技术路线长期并存，由于成本上的劣势，单晶电池虽然转换效率更高，但市场份额长期由多晶电池占据。随着连续投料、金刚线切割以及 PERC 高效电池等一系列新工艺和新技术的普及和应用，单晶电池成本大幅下降，效率优势得以充分体现，开始加速取代多晶电池。目前，基于P 型硅片衬底的单晶 PERC 电池是太阳能电池市场的主流产品，根据 CPIA 数据，2021年，单晶 PERC 电池市场在中国太阳能电池市场的占比高达 91.2%。单晶 PERC 电池目前面临效率进一步提升的瓶颈，2021 年我国规模化生产的单晶 PERC 电池平均转换效率达 23.1%，已接近 24%左右的量产效率极限，进一步提升效率的空间有限，行业对新技术的追求更加迫切。
薄膜电池是继晶硅电池后出现的新一代电池技术，由于采用直接带隙半导体材料代替晶体硅发电，在理论上有更高的转换效率和更低的生产成本。传统的薄膜电池以硅基为主，转换效率方面存在技术瓶颈，从产品性能与生产成本上相较晶硅电池无明显优势，企业相继退出、减产，传统薄膜电池在太阳能电池占比不断下降。近年来，薄膜电池在生产工艺和技术上都出现了巨大飞跃，CdTe 薄膜电池的成果尤其突出，其生产成本有望低于晶硅电池，产能处于扩张阶段，是未来几年发展前景最明确的薄膜电池技术，有望推动薄膜电池行业迎来又一轮的高速成长期，根据 CPIA 统计，2022 年全球太阳能薄膜电池产量约为 9.2GW，同比增长 10.3%，其中 CdTe 薄膜电池产量约为 9.18GW，在薄膜太阳电池中占比为 99%。此外，薄膜电池的应用场景远多于晶硅电池，能够按照传统工艺制成刚性的标准组件用于地面电站或者分布式电站，或根据需要以不锈钢或聚合物等柔性基底为衬底生产柔性电池，适用于建筑物曲面屋顶等处使用，亦或做成折叠式电源，适用于小型仪器、计算机、军事、通信、GPS 等领域，未来市场需求增长的确定性较强。
作为决定光伏组件效率和成本的核心器件，太阳能电池技术发展的核心驱动力是提升光电转换效率、降低制造成本。随着行业主流产品单晶 PERC 电池开始面临效率进一步提升的瓶颈，行业亟需发展新一代电池技术，当前新型电池技术百花齐放，以 HJT太阳能电池为代表的新技术获得了主流厂家的高度重视。HJT 太阳能电池是一种利用晶体硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太阳能电池，相对 PERC 电池具有双面率高、无光衰、温度系数低、弱光效应高、工艺步骤少等诸多优势，被认为是 PERC 技术未来的替代者之一。HJT 太阳能电池使用性能更优的 N 型硅片衬底生产，能够达到更高的光电转换效率水平。未来，随着 HJT 太阳能电池技术的成熟及量产成本的下降，其市场份额有望提升，具有广阔的市场前景和发展潜力。根据 CPIA 的预测，2030 年 HJT 太阳能电池市场占有率将达到 30%-40%，与 PERC 电池基本一致。
四、竞争对手
（一）公司的市场地位
公司是国内技术领先、规模较大的高性能溅射靶材生产企业之一，主要从事铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶等多种尺寸和各类形态溅射靶材的研发、生产和销售。公司主要产品综合性能突出，纯度、致密度、晶粒度、绑定焊合率等多项核心技术指标已达到行业领先水平。公司钼铌合金靶材、氧化铌靶、钼管靶材分别于 2017 年、2018年、2019 年被认定为“广东省高新技术产品”，2019 年公司旋转铜靶、旋转铝靶获得“2018年度中国新型显示产业链发展突出贡献奖”，2020 年公司 G10.5 平面铜靶获得“2019 年度中国新型显示产业链发展突出贡献奖”，2021 年公司 G8.5 代平面铜靶材、大尺寸钼铌平面靶材被认定为“韶关市高新技术产品”，2023 年公司 TFT 高纯铝旋转靶材被认定为“广东省名优高新技术产品”，平板显示用铜靶材被评为“2022 年省级制造业单项冠军产品”，钼基合金靶材获得“2022 年度中国新型显示产业链贡献奖创新突破奖”。2021 年公司被认定为国家级专精特新“小巨人”企业、中央财政支持第二批重点“小巨人”企业，2022 年公司获得韶关市人民政府颁发的“韶关市政府质量奖”。子公司东莞欧莱 2022 年和 2023 年分别被广东省工业和信息化厅认定为“2022 年创新型中小企业”、“广东省专精特新中小企业”。
公司坚持以技术研发为核心战略驱动力，不断投入研发资源用于技术创新和工艺改进，在溅射靶材关键核心技术领域持续突破创新，目前已形成创新性强、实用性高的核心技术体系，并广泛运用于主营业务产品中。在半导体显示领域，公司已实现 G5、G6、G8.5、G8.6、G10.5、G11 等世代线半导体显示用溅射靶材的量产供货，报告期内，公司溅射靶材运用于 G8.5 以上高世代产线半导体显示产品中的销售收入占半导体显示用溅射靶材销售收入的比例均超过 95%。公司铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶等主要产品已批量运用于京东方、华星光电、惠科、超视界、彩虹光电、深超光电和中电熊猫等下游知名半导体显示面板厂商 TFT-LCD 产品中，并进一步开拓了在 Mini LED 和Micro LED 等新型半导体显示产品中的应用。
根据江丰电子、阿石创、隆华科技、映日科技等国内溅射靶材厂商公开披露的财务数据，公司 2022 年溅射靶材业务收入在国内溅射靶材厂商中排名第四，公司 2021 年平面显示用溅射靶材业务收入在国内溅射靶材厂商中排名第二。根据中国电子材料行业协会的证明，按销售额统计，2021 年公司平面显示用铜靶产品出货在国产厂商中排名位居前列。公司近年来通过不断努力与发展，在平面显示用高纯铜靶、铝靶、钼靶、ITO靶方面均取得较大突破与进展，公司 G8.5、G10.5 平面铜靶、G10.5 平面 ITO 靶等多项产品的核心技术指标已达到国内外同类产品先进水平，实现进口替代，G8.5 旋转铜靶和旋转铝靶在国内首家通过客户验证。公司重视技术创新，为实现我国显示材料国产配套做出了突出贡献。2022 年合肥欧莱被认定为“2022 年度新认定合肥市集成电路、新型显示、生物医药、网络与信息安全重点产业链企业”。
（二）行业内的主要企业
1、境外企业情况
（1）JX 金属
JX 金属成立于 1905 年，总部位于日本。JX 金属主要从事有色金属资源的开发与开采、有色金属产品（铜、金、银等）的制造与销售、电解及压延铜箔的制造与销售、薄膜材料（靶材、表面处理剂、化合物半导体材料等）的制造与销售、精密压延制品的制造与销售、精密加工品的制造与销售、有色金属再利用及产业废物处理等。JX 金属的靶材产品主要包括钛靶、铜靶、钽靶、钨靶、ITO 靶、IZO 靶、IGZO 靶、锰合金靶、铁合金靶和铟靶等，产品主要应用于半导体、平面显示、光学膜、磁性材料和光伏电池等领域。
根据JX金属2022年发布的可持续发展报告，JX金属2021财年实现营业收入12,930亿日元，实现归属于母公司股东的净利润 931 亿日元。
（2）霍尼韦尔（HON.O）
霍尼韦尔成立于 1885 年，总部位于美国，2016 年于美国纳斯达克交易所上市。霍尼韦尔业务覆盖航空航天、智能建筑、化学材料、医疗健康和工业制造等领域。霍尼韦尔的靶材产品主要包括铝合金靶、铜合金靶、铜靶、钽靶、钛靶、钛锆合金靶、钨靶和钨合金靶等，产品主要应用于半导体集成电路等领域。
根据霍尼韦尔 2022 年年报，霍尼韦尔 2022 年实现营业收入 354.66 亿美元，实现归属于母公司股东的净利润 49.66 亿美元。
（3）东曹（4042.T）
东曹成立于 1935 年，总部位于日本，1949 年于东京证券交易所上市。东曹前身为东洋曹达工业株式会社，逐步由一家以生产烧碱和纯碱的单一型企业发展成为日本著名的大型石油化工综合企业集团，主要产品涉及石油化工、无机化工、精细化工、电子材料、医疗诊断和食品制造等领域。东曹的靶材产品主要包括铬靶、ITO 靶、铝靶、钛靶、钽靶以及金属合金靶材等，产品主要应用于半导体、太阳能电池、平面显示、磁记录媒体等领域。
根据东曹 2022 财年年报，东曹 2022 财年实现营业收入 9,185.80 亿日元，实现归属于母公司股东的净利润 1,079.39 亿日元。
（4）林德-普莱克斯（LIN.N、LIN.DF、LIN.DY）
林德成立于 1879 年，是全球领先的工业气体公司，总部位于德国；普莱克斯成立于 1907 年，是北美和南美洲最大的工业气体供应商，总部位于美国。2018 年 10 月，林德与普莱克斯宣布完成业务合并，成立林德-普莱克斯，其股票在纽约证券交易所和法兰克福证券交易所交易。林德-普莱克斯主要产品为大气气体，包括氧气、氮气和氩气等，覆盖化工和能源、医疗保健、制造、金属和采矿、食品和饮料以及电子产品等领域。林德-普莱克斯的靶材产品主要包括铝靶、铜靶和钽靶等，产品主要应用于半导体、平面显示、LED、太阳能等领域。
根据林德-普莱克斯 2022 年年报，林德-普莱克斯 2022 年实现营业收入 333.64 亿美元，实现营业利润 53.69 亿美元。
（5）爱发科（6728.T）
爱发科成立于 1952 年，总部位于日本，2004 年在东京证券交易所上市。爱发科以真空技术为基础，覆盖真空设备和真空产品应用两大业务领域，产品主要应用于平面显示器及光伏生产设备、半导体设备、电子设备、组件、工业设备、材料等领域。爱发科的靶材产品主要包括铝及铝合金靶、铜及铜合金靶、钛靶、铬靶、钨靶、镍靶、钴靶、IGZO 靶等，产品主要应用于平面显示、半导体等领域。
根据爱发科 2021 财年年报，爱发科 2021 财年实现营业收入 2,412.60 亿日元，实现归属于母公司股东的净利润 202.11 亿日元。
（6）三井金属（5706.T）
三井金属成立于 1950 年，总部位于日本，1950 年于东京证券交易所上市。三井金属是全球领先的 ITO 靶生产商，主要产品包括功能材料和电子材料、汽车和贵金属等，广泛应用于功能材料、金属、汽车零部件等领域。三井金属的靶材产品主要包括 ITO靶、IGZO 靶等，产品主要应用于半导体显示和触控屏领域。
根据三井金属 2022 财年年报，三井金属 2022 财年实现营业收入 6,519.65 亿日元，实现归属于母公司股东的净利润 85.11 亿日元。
（7）住友化学（4005.T）
住友化学成立于 1913 年，总部位于日本，1949 年于东京证券交易所上市。住友化学是一家综合化学品制造商，覆盖必需化学品、能源及功能材料、信息电子化学、健康及农业相关事业和医药品等五大领域。住友化学的靶材产品主要为铝靶，产品主要应用于半导体显示和半导体集成电路领域。
根据住友化学 2022 财年年报，住友化学 2022 财年实现营业收入 28,952.83 亿日元，实现归属于母公司股东的净利润 69.87 亿日元。
（8）攀时
攀时成立于 1921 年，总部位于奥地利。攀时主要从事金属钼和钨相关半成品和部件的研发、生产与销售，主要应用于电子器件、汽车、制造技术、医疗技术、金属和材料、能源技术等领域。攀时的靶材产品主要包括钼及钼合金靶、氧化钼靶、钨及钨合金靶、铬靶、钛合金靶等，产品主要应用于高频电子器件、光电子器件、电力电子器件、电信行业、半导体行业、电子部件、显示器、电致变色玻璃、汽车驱动系统、汽车照明、汽车玻璃、硬质图层、装饰和部件图层、光伏、太阳能等领域。
（9）世泰科
世泰科成立于 1920 年，总部位于德国。世泰科主要从事钼、钨、铌等难熔金属粉末和零件的研发、生产和销售，主要应用领域包括电子、航空航天与国防、医疗技术和工业加工等。世泰科的靶材产品主要包括钼靶、钨靶、铌靶等，产品主要应用于平面显示、太阳能电池、集成电路、数据存储和光学涂层等领域。
2、境内企业情况
（1）江丰电子（300666.SZ）
江丰电子成立于 2005 年，注册地位于浙江省宁波市，2017 年在深圳证券交易所上市。江丰电子主要从事超高纯金属溅射靶材以及半导体精密零部件的研发、生产和销售，江丰电子的靶材产品主要包括钽靶、铝靶、钛靶、铜靶和各种超高纯金属合金靶等，产品主要应用于超大规模集成电路芯片、平板显示器、太阳能电池等领域；半导体精密零部件产品包括设备制造零部件和工艺消耗零部件，产品主要应用于超大规模集成电路芯片领域；除上述超高纯金属溅射靶材以及半导体精密零部件产品以外，江丰电子其他产品与服务包括 LCD 用碳纤维复合材料部件等产品和对外提供的清洗、加工等服务。根据江丰电子 2022 年 5 月公开披露的《宁波江丰电子材料股份有限公司向特定对象发行股票并在创业板上市募集说明书》，2020 年和 2021 年，江丰电子平板显示领域营业收入分别为 18,470.66 万元和 21,360.96 万元，占其营业收入的比例分别为 15.83%和13.40%，占比较低；江丰电子半导体领域营业收入分别为 96,027.53 万元和 136,866.83万元，占其营业收入的比例分别为 82.32%和 85.87%，占比较高。
根据江丰电子 2022 年年报，江丰电子 2022 年实现营业收入 23.24 亿元，实现归属于母公司股东的净利润 2.65 亿元。
（2）阿石创（300706.SZ）
阿石创成立于 2002 年，注册地位于福建省福州市，2017 年在深圳证券交易所上市。阿石创主要从事各种 PVD 镀膜材料的研发、生产和销售，主要产品包括溅射靶材和蒸镀材料。阿石创的靶材产品主要包括钼靶、铜靶、铝靶、硅靶、ITO 靶、钽靶、铌靶、银靶等，产品主要应用于平板显示、光学光通讯、节能玻璃等领域；蒸镀材料主要包括金蒸镀料、二氧化硅、五氧化二钽、五氧化三钛、各类锥台等，产品主要应用于光学光通讯等领域。根据阿石创 2020-2022 年年度报告，报告期内，阿石创平板显示领域营业收入分别为 12,590.80 万元、20,691.50 万元和 21,324.13 万元，占其营业收入的比例分别为 35.57%、33.90%和 30.69%，占比相对较低。
根据阿石创 2022 年年报，阿石创 2022 年实现营业收入 6.95 亿元，实现归属于母公司股东的净利润 0.14 亿元，其中，溅射靶材业务板块营业收入为 3.77 亿元。
（3）隆华科技（300263.SZ）
隆华科技成立于 1995 年，注册地位于河南省洛阳市，2011 年在深圳证券交易所上市。隆华科技的业务类型包括电子新材料、高分子复合材料和节能环保业务，隆华科技主要通过子公司丰联科光电从事电子新材料业务，电子新材料业务主要产品包括钼靶、铜靶、钛靶、钨靶、ITO 靶、IGZO 靶、ZTO 靶等，产品主要应用于半导体、平板显示器、太阳能电池等领域；高分子复合材料业务主要产品包括树脂复合材料、结构泡沫材料、橡塑材料、金属-非金属复合材料等结构功能一体化材料、PMI 系列结构泡沫材料（功能材料）及其制品等，产品主要应用于磁悬浮列车、航天、舰船、车辆、雷达通信、音响设备、医疗设备、运动休闲器械、轨道交通、军工安防、其他轻质结构等领域；节能环保业务主要包括工业传热节能业务、环保业务、萃取分离等，主要应用于石油、化工、电力等大工业行业换热、冷却领域，工业水处理、市政水处理等领域，湿法冶金、电池金属回收、城市矿山资源处置、污水处理、矿物浮选等领域。根据隆华科技 2020-2022年年度报告，报告期内，隆华科技电子新材料业务的营业收入分别为 28,048.77 万元、39,023.81 万元和 47,482.82 万元，占其营业收入的比例分别为 15.38%、17.67%和 20.63%，占比较低。
根据隆华科技 2022 年年报，隆华科技 2022 年实现营业收入 23.01 亿元，实现归属于母公司股东的净利润 0.64 亿元，其中，电子新材料业务板块营业收入为 4.75 亿元。
（4）有研亿金
有研亿金成立于 2000 年，注册地位于北京市，是有研新材（600206.SH）的全资子公司，有研新材于 1999 年在上海证券交易所上市。有研亿金主要从事微电子光电子用超高纯金属原材料、薄膜新材料，以及贵金属材料及制品的研发和生产，主要产品包括高纯金属靶材、蒸镀材料、贵金属合金和化合物等。有研亿金的靶材产品主要包括铜靶、钛靶、钴靶、铝靶、镍靶、金靶、银靶、铂靶、钌靶及相关合金靶等，产品主要应用于半导体分立器件和集成电路、MEMS、磁记录和薄膜太阳能等领域。
根据有研新材 2022 年年报，有研亿金 2022 年实现净利润 1.90 亿元。
（5）映日科技
映日科技成立于 2015 年，注册地位于安徽省芜湖市，主要从事高性能溅射靶材的研发、生产和销售，主要产品包括 ITO 靶、硅靶、钼靶等，产品主要应用于平面显示、太阳能电池、半导体（LED 芯片）、节能玻璃等领域。根据《关于芜湖映日科技股份有限公司首次公开发行股票并在创业板上市申请文件的审核问询函回复》，2020 年和2021 年，映日科技平面显示领域主营业务收入分别为 14,057.04 万元和 30,238.88 万元，占其主营业务收入的比例分别为 95.39%和 96.46%，占比较高。
根据映日科技招股说明书（申报稿），映日科技 2021 年实现营业收入 3.15 亿元，实现归属于母公司股东的净利润 0.84 亿元。
（6）先导薄膜
先导薄膜成立于 2014 年，注册地位于广东省清远市，主要从事真空镀膜用溅射靶材和蒸发材料的研发、生产、销售以及相关材料的回收。先导薄膜的靶材产品主要包括碲化镉靶、铜铟镓硒靶、ITO 靶、铟靶、贵金属靶材等，产品主要应用于新型显示、光伏、半导体、精密光学、数据存储和特种玻璃等领域。
五、发行人报告期的主要财务数据及财务指标
2023年度 2022年度
营业总收入(元) 4.76亿 3.92亿
净利润(元) 4934.33万 3532.31万
扣非净利润(元) 3707.31万 2412.88万
发行股数 不超过过4,001.1206 万股，超额配售选择权:
发行后总股本不超过过于过于16,004.4824 万股
行业市盈率:28.69倍(2024.4.18数据)
同行业可比公司静态市盈率估值(不扣非):42.71(江丰电子)、188.19(阿石创)、81.85(隆华科技)、40.04(有研新材)去除极值54.87
同行业可比公司静态市盈率估值(不扣非):44.10(江丰电子)、188.19(阿石创)、22.21(隆华科技)、39.18(有研新材)去除极值35.16
公司EPS静态不扣非:0.22
公司EPS静态扣非:0.15
公司EPS动态不扣非:0.31
公司EPS动态扣非:0.23
公司EPSTTM不扣非:-
公司EPSTTM扣非:-
拟募集资金57,720.62 万元,募集资金需要发行价14.43元,实际募集资金:3.84亿元.
募集资金用途: 1高端溅射靶材生产基地项目（一期）2高纯无氧铜生产基地建设项目3欧莱新材半导体集成电路靶材研发试制基地项目4补充流动资金
4月发行新股数量2支。3月发行新股数量9支。
电子 -- 半导体 -- 半导体材料
所属地域：广东省
主营业务：高性能溅射靶材的研发、生产和销售
产品名称：铜靶 、铝靶 、钼及钼合金靶 、ITO靶 、其他
实际控制人：文宏福、方红、文雅 (持有广东欧莱高新材料股份有限公司股份比例：41.71、26.64、0.56%）
是否有战略配售:无
是否有保荐公司跟投:无
(科创板)
行业市盈率:28.69倍(2024.4.18数据)
行业市盈率预估发行价:4.30元，可比公司预估市盈率发行价静态:8.23元，可比公司预估市盈率发行价动态:5.27元。
实际发行价:9.60元,发行流通市值:3.84亿,发行总市值:15.36亿
价格区间:10.90元,最高:13.67元,最低:6.89元.是否有炒作价值:
动态行业市盈率预估发行价:元。
上市首日市盈率: 30.97(动)、 (TTM)倍.行业市盈率是否高估: 可比公司市盈率是否高估:
公司EPS动态不扣非:0.50公司EPSTTM不扣非:-
预计一季报业绩：EPSPE
同行业可比公司静态市盈率估值(不扣非):44.10(江丰电子)、188.19(阿石创)、22.21(隆华科技)、39.18(有研新材)去除极值35.16
发行公告可比公司:欧莱新材、江丰电子、隆华科技 、阿石创 。
是否建议申购:估值没有问题，理论上，不存在破发的概率。
上市首日开盘价:溢价%，市盈率。是否破发:
关键字:公司是国内技术领先、规模较大的高性能溅射靶材生产企业之一，主要从事铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和 ITO 靶等多种尺寸和各类形态溅射靶材的研发、生产和销售。
行业:溅射靶材行业。
高性能溅射靶材领域竞争对手:1、境外企业情况（1）JX 金属（2）霍尼韦尔（HON.O）（3）东曹（4042.T）（4）林德-普莱克斯（LIN.N、LIN.DF、LIN.DY）（5）爱发科（6728.T）（6）三井金属（5706.T）（7）住友化学（4005.T）（8）攀时（9）世泰科
2、境内企业情况（1）江丰电子（300666.SZ）（2）阿石创（300706.SZ）（3）隆华科技（300263.SZ）（4）有研亿金(是有研新材（600206.SH）的全资子公司)（5）映日科技（6）先导薄膜(7) 欧莱新材
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风险揭示:股市有风险,投资需谨慎.请您务必对此有清醒的认识,认真考虑是否进行证券交易.投资建议内容仅供参考,不构成直接买卖建议,投资者须对其投资行为进行独立判断。
