国内在半导体高端光刻胶发展较好的上市企业主要有四家，分别是晶瑞股份、容大感光、上海新阳、南大光电。其各自的产品线和发展进程如下：
四家公司的市值分别为：84.6亿、60.7亿、125亿、122亿。且四大厂商在2020年有不错的表现，营收和净利均见长：

晶瑞股份：营收约10.2亿，同比增长35.3%；净利约7695万，同比增长145.7%；
南大光电：营收约5.95亿元，同比增长85.13%；净利约8702万元，同比增长58.18%；
上海新阳：营收约6.94亿元，同比增长8.25%；净利约2.74亿元，同比增长30.44%；
容大感光：营收约5.44亿元，同比增长19.52%；净利约5683万元，同比增长50.2%。

针对KrF光刻胶，晶瑞股份进入客户测试阶段；针对ArF光刻胶，上海新阳已进入产能建设阶段；南大光电已通过客户认证；晶瑞股份尚在研发过程中。

晶瑞股份高端KrF光刻胶完成中试，未来几年有望实现量产导入；ArF高端光刻胶研发工作已启动，并于2020年下半年购买ASML1900Gi型光刻机设备，能够实现90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶可以满足国内集成电路产业关键材料市场需求。

上海新阳今年早些时候表示，公司购置了满足I线365nm光刻胶到ArF 193nm浸没式光刻胶的4台光刻机，是研发各类半导体光刻胶必备的研发测试和生产质控的关键设备，没有光刻机就没法实现研发光刻胶的产业化，光刻胶的研发成功会给公司整体的技术水平带来质的提升和销售收入的显著增长。

南大光电近期表示，生产线产品光刻胶发往多家下游客户验证，该公司已建成25吨光刻胶生产线，生产线已具备批量生产的条件。