根据应用领域,光刻胶可分为半导体光刻胶、 LCD 光刻胶和 PCB 光刻胶。国内层面可以看到, PCB 光刻胶占比最高,而半导体光刻胶占比最低,表明自给率仍较低。光刻工艺是半导体制造的核心工艺,半导体光刻制程通常遵循八步基本工艺,包括衬底的准备、半导体光刻胶涂覆、软烘焙、曝光、曝光后烘培、显影、硬烘焙和显影检测。众所周知,光刻胶是半导体芯片制造过程中所必须的关键材料,主要应用于芯片制造中的光刻工艺,而这项工艺通常占据芯片总成本的35%。容大感光:95.28%的收入来自 PCB 光刻胶,3.71%的收入来自显示用光刻胶及半导体光刻胶。而且目前容大感光显示用光刻胶、半导体光刻胶的品质性能仅能满足中低端客户的要求,要开发中高端客户需要的产品尚存在技术瓶颈。
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