凭借30多年来的技术积累优势,南大光电先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体(砷烷、磷烷)研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目,填补了多项国内空白。公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式）可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点，将实现高端光刻胶材料的进口替代，提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题。

工信部披露的专精特新小巨人名单中，上市公司部分已经达到近300家，但这并不意味着这300家小巨人都值得去投，我们依然需要优中选优，优选景气行业。本文，我们为你带来国内高端光刻胶领跑者——南大光电。

一、MO源到光刻胶，深度布局半导体材料

江苏南大光电材料股份有限公司是一家主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售的高新技术企业。公司于2012年8月7日在深圳证券交易所创业板挂牌上市(股票代码300346)。

凭借30多年来的技术积累优势,公司先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体(砷烷、磷烷)研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目,填补了多项国内空白。2017年,南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目。

凭借领先的生产技术、强大的研发创新实力及扎实的产业化能力，公司已经从多个层面打破了所在行业内的国外长期垄断。前驱体、电子特气、光刻胶三大关键半导体材料的布局基本形成，关键技术研发取得突破，产业化及客户拓展快速推进。

1、先进前驱体材料业务

公司先进前驱体材料板块主要由MO源类产品构成，同时布局高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料等产品。

（1）MO源产品

MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料，在半导体照明、信息通讯、航空航天等领域有极其重要的作用。

公司是全球主要的MO源生产商，集技术、研发、采购、生产、仓储和市场开发为一体的MO源综合性供应平台。产品不仅实现了国内进口替代，还远销欧美及亚太地区，积累了一大批稳定优质的客户资源。

公司在MO源的合成制备、纯化技术、分析检测、封装容器等方面已全面达到国际先进水平，主要产品有三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等，产品的纯度大于等于6N，可以实现MO源产品的全系列配套供应，同时可以根据客户需求提供定制产品服务，在激烈的市场竞争中，具有明显的竞争优势。2019年南大光电为全球MO源市场占有率前二的厂商，市场占有率接近30%，并占据国内市场第一的份额。

（2）高纯ALD/CVD产品

高纯ALD/CVD前驱体产品是整个电子工业体系的核心原材料之一，其被广泛应用于电脑芯片、太阳能电池、移动通讯、卫星导航、航天器等电子器件制造等诸多方面，在航空航天、新型太阳能电池、电子产品等领域发挥着巨大作用。

依靠多年积累的研发和生产经验，公司已经掌握了多种ALD/CVD前驱体材料的生产技术，并且具备规模化生产的能力，已经小批量供货给国内外先进半导体企业。同时，公司还承担了02专项“ALD金属有机前驱体产品的开发和安全离子注入产品开发”项目，目标是尽快实现ALD/CVD前驱体材料国产化，打破国外对前驱体材料的垄断，为半导体整个产业链的协同发展贡献力量。目前，项目研发和产业化进展顺利。

（3）其他产品

公司及时把握半导体先进制程发展方向，积极布局高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料等业务。集成电路发展到45纳米技术代下，传统SiO2栅极材料漏电量及功耗将急剧上升，高K三甲基铝是突破该技术瓶颈的关键性材料之一。

公司2019年初开始布局高K三甲基铝项目，力争实现MO源从LED向IC的转型。2020年，作为项目实施主体的全椒半导体工厂已建设完成，2020年下半年开始试生产，预计2021年产品在下游客户进行测试验证，为MO源逐步实现从光电级到电子级的跃升迈出坚实一步。

2020年，公司通过技术引进和人才引进相结合的方式，开始布局新型硅前驱体项目，预计对应产品可以满足高性能计算和低功耗需求的高级逻辑和存储器芯片制造要求。此外，公司开始了泛半导体材料精细金属（FMM）掩膜版和OLED有机材料的研发和产业化工作，力争占据泛半导体材料领域的先发优势。

2、电子特气板块

公司电子特气板块主要包括氢类电子特气产品和含氟电子特气产品。

（1）氢类电子特气产品

公司氢类电子特气主要包括磷烷、砷烷等，是集成电路和LED制备中的主要支撑材料。公司研发的高纯磷烷、砷烷打破了国外技术封锁和垄断，为我国极大规模集成电路制造、民族工业振兴提供了核心电子原材料。

公司磷烷、砷烷等氢类电子特气产品由子公司全椒南大光电生产，产品纯度已达到6N级别，市场份额持续增长，贡献了较好的销售业绩。在不断开拓现有产品市场的同时，全椒南大光电也在积极开发新种类特气产品，包括硅烷、硼烷等多种混合气体正在逐步投放市场。

（2）含氟电子特气产品

含氟电子特气是应用于微电子工业（如集成电路、平板显示、太阳能薄膜等）的一种优良等离子蚀刻和清洗材料，其中三氟化氮广泛用于大规模集成电路、平板显示、薄膜太阳能的生产制造，六氟化硫广泛应用于输配电及控制设备行业，高纯六氟化硫可用于半导体材料的干法刻蚀清洗。

公司子公司飞源气体是国内主要的含氟电子特气生产企业，产品主要包括三氟化氮、六氟化硫及其副产品。目前公司三氟化氮产量位居国内第二。

3、光刻胶及配套材料板块

光刻胶及配套材料是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。高端光刻胶是集成电路实现28nm、14nm乃至10nm以下制程的关键。

长期以来，全球高端光刻胶市场被以日本合成橡胶、东京应化、信越化学、富士电子材料等为代表的国外技术垄断；而在我国，高端光刻胶领域仍有大量品种短缺或空白，因此，高端光刻胶技术成为了我国芯片制造的“卡脖子”难题，相关领域进口替代需求紧迫。

公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式）可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点，将实现高端光刻胶材料的进口替代，提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题。

2017及2018年，公司分别获得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发项目”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化项目”的正式立项，为此，公司组建了以高端光刻胶专业人才为核心的独立研发团队，建成了约1500平方米的研发中心和百升级光刻胶中试生产线，产品研发进展和成果得到业界专家的认可。

在生产方面，公司专门设立了光刻胶事业部，并由子公司宁波南大光电全力推进“ArF光刻胶产品的开发和产业化项目”的落地实施，目前已完成两条光刻胶生产线的建设。

公司正在推动ArF光刻胶的客户验证和量产工作，相关配套材料产业化也在稳步推进。2020年12月，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶产品。目前，国内从事高端光刻胶研发和生产的公司主要有南大光电、上海新阳、晶瑞股份、北京科华等。