异动
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倚楼
2025-09-25 22:27:37
重点
@只做热点的道士: 若中国光刻机突破!最受益之一必定是:掩膜版!不管你是从国产替代,还是耗材,还是从新事物上,都将确定这一点!一、为何光刻机突破最受益:掩模版?—— 技术依赖与耗材属性双重驱动1、多重曝光技术放大掩模版需求单次曝光对应 1 套掩模版,曝光次数翻倍直接使掩模版用量提升 3-4 倍。直接结果:制造一颗7nm
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