光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

 

S万润股份(sz002643）S 公司主要从事信息材料产业、环保材料产业和大健康产业三个领域产品的研发、生产和销售，其中公司在信息材料产业、环保材料产业领域的产品均为功能性材料。

 

公司的显示材料主要包括高端TFT液晶材料和OLED材料，公司是该行业国内领先企业。公司高端TFT液晶单体销量占全球市场份额15%以上，是全球主要的高端TFT液晶单体材料生产商之一。OLED材料方面，公司主要产品包括OLED单体材料与OLED中间体材料，为该领域国内领先企业。

 

公司相关光刻胶产品为光刻胶材料，目前产品包括光刻胶单体与光刻胶树脂，主要应用在半导体制造领域。公司半导体用光刻胶单体和光刻胶树脂产品种类及生产技术覆盖大部分主要产品。公司力争将光刻胶材料业务做到国内领先地位。

 

8月8日在互动平台表示，公司光刻胶材料产品主要包括光刻胶单体与光刻胶树脂，主要应用在半导体制造领域，相关产品已经实现供应。公司“年产65吨光刻胶树脂系列产品项目”已完成了一次安全验收试生产工作，并通过安全验收，现正进行试生产前的准备工作。目前项目正按计划积极推进中。

 

 

公司作为国内最早进行液晶材料生产的企业之一，万润股份始终保持行业内的技术领先，在全国乃至世界液晶材料行业有着举足轻重的地位。公司在显示材料、半导体材料、PI及封装胶材料&膜材料、电子化学品、储电电池材料、器件产业等领域的不断探索，致力成为信息材料研发和生产的优秀企业。

 

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