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日日升
2025-05-08 09:05:37
自主可控
@加油奥利给:
作者:郑震湘,佘凌星,刘嘉元(国盛电子)分辨率、套刻精度、产能为光刻机核心参数。光刻工艺是芯片制造流程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节,直接决定了芯片的最小线宽,定义了半导体器件的特征尺寸,先进技术节点的芯片制造需要60-90步光刻工艺,光刻成本占比约为30%,耗费时间占比约为40-50%。
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