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Privateking
2023-09-16 01:52:42
可以
@优等生: 离子注入是半导体制程中关键的工艺技术,是指在硅晶圆中加入杂质元素,改变晶圆衬底材料的化学性质(载流子浓度和导电类型),但杂质注入会造成晶格损伤,这时需要退火工艺来修复硅晶格激活掺杂后的电晶体。离子注入工艺主要流程:“离子源---离子加速器---离子质量分析器---扫面系统”。就是将气体形态的掺杂化合
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