三氟化氮+光刻胶+专精特新 1、2023年12月9日公告，公司拟6亿元投建年产8400吨高纯电子级三氟化氮生产项目。 2、2024年1月26日消息，南大光电申请二茂铁纯化装置专利，可高效提纯，降低纯化成本，1月10日公司申请高纯度La(iPrCp)3专利。 3、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。 4、公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。 5、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是全球主要的MO源生产商，主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、硅前驱体和OLED材料。