茂莱光学——光刻机光学器件龙头，上海微电子为其主要客户，供应光刻机透镜、物镜、光学关键模块
AI国内最大的障碍是算力，而算力需要突破的核心是光刻机。
22日，路透社消息，随着国内半导体制程持续突破，中芯国际再度遭受美国制裁。
前一日，环球网消息，荷兰外贸与发展合作大臣杰弗里·范莱文（Geoffrey van Leeuwen）近日在回答议会质询时宣称，荷兰政府最近决定拒绝向光刻机巨头阿斯麦（ASML）发放对华出口许可。
随着ASML 在DUV光刻机领域禁令生效，国内要想赢得AI之战，光刻机国产替代箭在弦上。
毕竟ASML 14nm的2050i和英伟达A100 H100都拿不到了，国内光刻机不突破，华为昇腾就没法放量，算力没戏=AI没戏。
上海微电子是国内光刻机领军企业，根据燕东微电子在互动易上的回复，可知目前上海微电子已量产65NM光刻机，并将进一步向28NM、14NM发起进军。
一、28NM交付之时即上市之时，上海微电子IPO箭在弦上
去年年底，中信建投披露关于上海微电子首次公开发行股票并上市辅导工作进展情况报告。在专项技术的辐射下，上海微电子已经成为国内唯一具备制造多领域、多品种产线应用的高端光刻机供应商。
根据上海微电子已向燕东微交付用于65NM芯片生产光刻机可知，上海微电子距离28NM只有一代差距。
市场普遍认为，上海微电子IPO之时，就是国产28NM光刻机交付之时，这个节奏将提前。
二、上海微电子是茂莱光学主要客户，为其提供光刻机透镜+物镜+关键模块
茂莱光学招股书显示，公司为上海微电子提供光刻机光学透镜，此外也为Camtek、KLA、Onto Innovation、CYBEROPTICS国际半导体厂商提供光学系统产品。
公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键模块。
茂莱光学招股书显示，上海微电子连续多年是公司的主要客户，2019~2022年，每一年均为公司应收账款余额前五的客户，可见其是上海微电子光学组件的最核心供应商。
在光刻机成本占比重，光源及光学系统占比41%、真空系统占比32%、材料占比27%，光学光源系统价值量占比最大。
作为上海微电子光学系统主要供应商，除了透镜以外，公司在光刻机物镜也实现供货，茂莱光学互动易表示：在光刻机领域，公司基于核心技术生产的光刻机曝光物镜用光学器件最大口径可达直径300mm，突破常规透镜尺寸和精度的指标要求，面形精度可达到小于30nm，且在软材料CaF2上也可达到上述面形指标，可以满足KrF、ArF、I线光刻机曝光物镜系统的应用需求。
此外，除了当前上海微电子着力推进的DUV光学系统以外，茂莱光学在EUV光刻机领域也有超前布局。
茂莱光学低应力高精度装配技术可实现偏振消光比达到 1:1000;同时公司为精密装调配置了干涉测量、自准直测量、CGH 测量、光外差测量、MTF 测量等多种测量手段，装调范围可达直径 400mm，偏心测量精度 500nm，透镜半径测量精度100nm，综合波前测量精度<30nm，系统对准误差小于5um，整体偏心<20arcsec。目前该技术主要用于 EUV 晶圆厂的晶圆测量仪器中，提供的光学镜头及系统为保证客户进行高精度的测量定了坚实的基础。
现在ASML光刻机之路已经堵死，当前国内获取英伟达算力卡也被堵死，AI时代下，算力需求远远无法满足。
唯有国产光刻机突破才能让制程突破，以至于有足够的光刻机可以生产先进制程所需的算力芯片。
而国内主要靠上海微电子，当前上海微电子已突破65NM，只要突破28NM，就接近ASML 2050i的水准（生产麒麟9000S 7nm芯片的光刻机）。
茂莱光学作为上海微电子透镜+物镜+测量系统组件的主要供应商，将极大受益于上海微电子光刻机的发展放量，将产生超级上涨空间。
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