精密光学物镜+光刻掩膜版（拟收购常州维普）+光刻机光栅尺+纳米压印+华为 1、2026年1月5日盘后公告，公司与语荻光电就精密光学物镜及系统领域的合作达成一致，拟通过合作研发、优先采购等方式建立信息和资源共享机制，实现市场扩张策略和战略发展目标；语荻光电创始股东及核心团队来自于上海光机所，主要从事半导体设备精密光学物镜及组件、卫星激光通信光学系统等产品主要客户包括部分国内半导体设备、商业卫星等领域的头部公司。 2、公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。目前公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机。 3、根据相关资讯，佳能等国际厂商拟尝试通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产，公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。 4、公司供应华为的产品主要有纳米纹理装饰材料。 5、公司推出了公共安全材料、新型印刷材料、导光材料、柔性透明导电膜、中大尺寸电容触控模组和特种装饰膜等产品，并在积极布局太阳能光伏电池铜电镀方案与金属电极膜等领域的产品和产业化应用。