全球目前一共只有四家能够生产芯片光刻机的厂商，分别是ASML、尼康、佳能和上海微电子，其中ASML的技术最为先进，它是唯一能够生产EUV光刻机的厂商，这种光刻机的精度已经达到了3nm。而尼康使用的是浸润式光刻机，能够实现7nm及以下的细微加工。佳能和上海微电子都采用的是干式光刻机，分辨率分别在55nm和90nm左右。这四家厂商在全球范围内都享有较高的声誉。
二、大族激光光刻机的诞生
中国大陆出现了第五家光刻机厂商——大族激光。这家厂商在全球激光设备企业中排名第二，其主要产品为数控激光切割机和金属3D打印机。据悉，大族激光的光刻机项目主要应用于分立器件领域，分辨率为3-5μm，采用的是接近式和步进式光刻机。虽然相比投影式光刻机而言，接近式和步进式的技术相对较落后，但这标志着我国在光刻机领域取得了一定的突破。
三、光刻机曝光方式的三类
光刻机在曝光方式上可以分为三类，分别是接触式光刻机、接近式光刻机和投影式光刻机。投影式光刻机是目前主流的光刻机，投影式光刻机的工作方式是将掩模上的芯片图形通过外部光源投影在硅片上，进行曝光和加工。
这种光刻机的优点是可以实现高分辨率和大面积曝光。而接触式光刻机则直接将掩模接触在硅片表面，然后通过掩模上的芯片图形进行曝光和加工。由于接触式光刻机直接与硅片接触，所以使用寿命较短、对硅片的损伤较大。接近式光刻机则是介于两者之间的一种光刻方式，不会像接触式那样对硅片造成过多损伤，同时又避免了投影式光刻机因芯片面积较大导致成像出现畸变的问题。
四、大族激光的光刻机特点
大族激光推出的光刻机主要应用于分立器件领域，分辨率为3-5μm，采用的是接近式和步进式光刻机。这种光刻机虽然相对投影式光刻机而言技术上还存在不足，但它也有着自己的优点。接近式光刻机相比于接触式光刻机使用寿命更长，而步进式光刻机则可以大面积曝光，适用于大型芯片的批量生产。目前大族激光的接近式光刻机已投入市场，而步进式光刻机则正在进行用户优化。
五、展望未来
尽管大族激光的光刻机相对于其他厂商而言还有一定的技术差距，但这也是一步步迈向先进技术的重要一步。有了这个开端，相信在不久的将来，我国的光刻机领域将来越好。随着科技的发展，芯片的制造工艺也将越来越复杂，对光刻机的精度和功能要求也将越来越高。希望大族激光能够在不断的研发中，更好地满足市场需求，带领我国光刻机技术不断前行
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