中微公司 2021 三季报电话会纪要
猫猫喵喵3
2021-11-02 20:57:53
中微公司 2021 三季报电话会纪要
公司三季报完成情况
公司三季度员工有 1000 人，10 个国家的外籍员工。公司总部位于上海，在海
外日本、韩国、新加坡、美国等地设有分支机构。公司主要经营 4 大类产品：
电容性刻蚀设备，主打设备，最多可配置 6 个反应台，从加工工艺精度看，已
经进入 7nm，5nm 乃至更先进产线，进入小批量甚至大批量生产，用在 2D 和 3D
芯片；第二类是深硅刻蚀设备，用于封装和 MEMS 芯片，进入海内外主流的客户
的生产线，在进行 8 英寸、12 英寸晶圆的制造应用；第三类设备是 ICP 电感型
可刻蚀设备，这款设备可以搭载最多六个反应器的系统，公司目前向市场提供
双反应台的配置；第二大类设备是 MOCVD 设备，该领域向市场推出两代产品，
包括 Prismo D-Blue、Prismo A7，特别是 Prismo A7 这款产品，在蓝光领域取
得了全球市场占有率第一的位置。针对 MINI LED 市场推出新设备，获得大量订
单。
整个行业从 2020、2021 年乃至后续预测都会有好的成长，公司服务的集成电路
领域，根据全球最权威的 Gartner 咨询机构，2021 年前端设备市场规模同比增
长超过 30%，达到千亿美金量级。公司服务的刻蚀设备，随着工艺演进，刻蚀
步骤增加。28nm 制程工艺节点步骤 40 步，5nm 涉及到的步骤达到 160 步。公司
服务的刻蚀设备市场得到很好的成长，出货规模达到 120 亿美金。
MOCVD 领域，未来几年，先进显示领域，MINI LED，后续 Micro LED，对 MOCVD
需求有大量的提升。公司相关设备也在探索在功率器件、SiC 领域的应用。
公司产品进入海内外主要晶圆代工企业，海外的台积电、联电、GF、海力士；
国内的中芯国际、华力、华虹、长江存储，长鑫。
MOCVD 客户包括国内的三安光电、华灿等 LED 知名制造企业。
三季度营运表现，受益于行业景气度成长，在刻蚀设备有好的表现。
三季度营业收入 7.34 亿元人民币，同比增长+47%；刻蚀设备收入 4.94 亿元，
同比增长 132%；MOCVD，部分订单尚未发货，3 季度营收同比有所下滑。前三季
度，营收 20.73 亿元，同比增长 40%。其中，刻蚀设备收入 13.52 亿元，超过
去年全年刻蚀设备营收，同比增长 99%，毛利率达到 43.97%。
MOCVD 前三季度部分订单未发货，对公司营收没有产生贡献。营收达到 3.04
亿，比去年有所下滑。MOCVD 达到 32.21%，比去年大幅提升。
2021 年三季度，扣非净利润 1.03 亿元，去年亏损 8600 万。主要因为营收增
加，毛利率从去年的 36%增长到今年的 43%；股份费用比去年同期下降 2300
万；利息收入增加。
前三季度扣非归母净利润 1.64 亿元，去年亏损 4500 万元。主要受益于公司销
售额增长带动毛利增加。
2021 前三季度销售额增长 5.96 亿元，毛利率从去年的 34%增长到 42%。
今年前三季度股份支付费用 1.83 亿元，比去年股份支付费用增加了 1.2 亿元。
员工人数和薪酬成长，费用增加 3800 万元。
三季度归母净利润 1.45 亿元，比去年同期有所下滑。
公司扣非利润实际上对比去年增加了 1.89 亿元，但是因为公司去年在三季度的
时候投资中芯国际的股权，去年三季度报表影响是盈利 1.56 亿元，今年是亏损
0.14 亿元，如果把这个因素扣除掉，公司今年的扣非归母净利润比去年有一个
非常好的成长。
累计到前面这三个季度，归母净利润是 5.42 亿元，与去年全年水平相当，同比
增长 95%。一方面受益于公司营收规模、盈利能力增长；另一方面因为政府补
助增加了近 1 亿元。
三季度公司员工有增加，目前超过 1000 人。
公司会在南昌和上海临港分别建设两个新的生产基地，南昌工厂的建设呢已经
这个取得非常好的进展，在三三月份的时候已有部分的厂房完成了封顶，预计
到 22 年年中的时候可以投入使用；临港的产业化经济建设项目在非常顺利进
行。
总结来看，公司前三季度销售总额增长 40.4%，盈利增长 96%，情况非常健康，
期待 4 季度有很好的表现。
Q&A
Q：备品备件上半年只有低个位数增长。今年增速慢的原因？
主要是迟后效应。卖了很多新的设备，设备刚上产线，没有消耗很多备品备
件。期待再过半年、一年，备品备件体量也会随着销售量增长。备品备件营收
占比 20%是比较正常的。
Q：目前零部件紧张的情况下，刻蚀设备交付期是否有变化？招股说明书显
示，刻蚀设备交付期需要 5-6 个月，MOCVD 设备要 10-11 个月。
刻蚀机、MOCVD 交付方面好的消息，给用户的交付日期没有晚过，目前仍然能
够按时交付。下半年由于疫情，国外二级、三级零部件厂商可能出现短缺现
象，目前正在交涉和推动。正在找供应厂商，缓解零部件短缺压力。
Q：刻蚀机温度是不是影响刻蚀速度、均匀性，所以在不同刻蚀工艺中，需要
的温度有差异？
温度是重要的指标，在工艺过程，是表面化学反应，气流流动均匀性、等离子
体均匀性都会对刻蚀、薄膜有很大的影响。温度对几个均匀性的控制非常关
键。目前采用多区控制，多达上百个区的控制，这是反应器开发关键的点。
Q：公司在大马士革工艺、HAR 刻蚀工艺认证的进展？
机器在电容性高能等离子刻蚀方面，有两个方向要改进。一个是逻辑线路中大
马士革刻蚀，钻孔和刻深沟两部并作一步，需要特殊机型，正在开发，加以数
日会在大马士革刻蚀上有很好的表现。
存储器件，需要高能等离子气体，刻蚀高深宽比结构，目前正在开发新的产品
和方案。
Q：公司存在季节性收入特点，往年 4 季度都比较高，今年会不会有类似的情
况及背后的原因？
大多数年份，营收都是春节后 1 季度最低，2 季度恢复，3、4 季度越来越高。
今年比较特殊，因为去年下半年形势好，拿了很多订单，今年上半年到 3 季
度，营收都非常好。因此今年会比较平均，最后一个季度不会差，但相比前三
季度增幅不会那么明显。
Q：MOCVD 业务在手订单情况不错。单季度来看，MOCVD 毛利率提升幅度大的原
因是什么？
新的产品型号 UniMax 主要针对 MINI LED 设计。性能、复杂性提高很多，有更
多的价值提供给用户，所以毛利率有明显增长。
第一代 MOCVD 在 2017 年进入市场，当时国际上两家公司已经竞争了 5-10 年，
为了保持地位，都进行降价。公司进入市场时价格很低，公司也只能提供廉价
价格。目前，公司产品处于领先地位，不需要进行价格战，产品价格有一定恢
复。
Q：CVD 有布局 LPCVD 和外延 CVD 设备。研发进展？
公司从建立时就致力于开发等离子刻蚀和 CVD 设备。现在公司有一定规模，会
继续开发更多产品。开始开发 LPCVD 设备。新开发设备会是独特产品，不会模
仿国际厂商产品。
Q：收入结构增长，除了 MOCVD 毛利率提升，刻蚀产品毛利率同比也有明显提
升。在产业链紧张的情况下，毛利率提升的原因？
看公司刻蚀机 8-10 年演变过程，进入时，国际上很强的竞争者基本上控制了市
场，公司必须以低价格进入市场。经过多年努力，公司设备性能、性价比达到
国际厂商产品水平，公司可以凭高性能、高输出量来竞争，因此毛利率不断提
高。
Q：3 季度订单大量增长，3 季度有 16 亿，上半年 18-19 亿。里边 Miniled 和
刻蚀的结构？
刻蚀比较高，4 季度 MOCVD 也会大量增长。
Q：用于碳化硅的 MOCVD 产品何时进入市场？
功率器件所用材料，一个是 GaN，和 MOCVD 应用同类生产设备，已经有一定的
产品进入市场；对于碳化硅，没有做过这种设备，目前正在做。
Q：公司份额仍然较低，无论 ICP 还是 CCP 以非关键制程为主。目前在关键制
程的进度怎么样？
公司最初进入市场，以后端金属孔刻蚀、沟槽刻蚀为主，逐渐往前走。目前产
品可以做绝大部分关键刻蚀，目前公司缺少的是 3D memory 中 60:1 结构的深宽
比刻蚀；逻辑上大马士革刻蚀工艺正在开发。总结来看，公司产品可以覆盖
90%的刻蚀应用。
Q：存储、逻辑占比，今年、去年占比的变化？
没有具体数据。最近两年，存储器发展非常快。占比来看，存储和逻辑不会差
太多。
Q：下个季度，公司市场份额从哪些竞争对手处得到的？
不方便透露哪个公司。市场占有率进入前三的设备是 CCP 刻蚀机，ICP 是新产
品，还没有稳定的市场位置，但增速很快。
公司能持续提高市占率，受益于以下三点：刻蚀结果非常有竞争力；输出量高
于竞争者且成本低，大部分应用公司的双台机；三是和客户保持好的合作关
系，服务态度好。
Q：刻蚀机在逻辑芯片中的应用，按制程的拆分？
笼统地将，十年前 ICP 占比 40%, CCP 占比 60%；现在 ICP 产品占 60%以上，CCP
占比 35%-40%。
因为 ICP 是离子能量低，均匀性好的 plasma。器件尺寸越来越小，薄膜越来越
薄，需要用 ICP 加工。
Q：台积电在美国、日本有建厂规划。伴随台积电在海外建厂，公司是否有看
到更多的进展？
一个公司在本土对不同设备核准并建设产线，在国外建设同样的产线，那么会
采用之前的设备，不会重新核准设备。
Q：在三星、英特尔有批量销售产品吗？
英特尔美国没有，英特尔大连有很好的关系，CCP\ICP 设备在运转。三星不方
便解释，目前尚未进入产线。
Q：可否透露对台积电的销售额，19 年到今年？
不方便披露，5nm 一些刻蚀步骤被核准进入生产。
Q：对台积电销售额是否等于台积电资本开支？
增速很好
Q：ICP 设备 3 季度交付情况？
ICP 设备进入市场不到 3 年，增速很好，超过 100%的速度增长。
Q：MINI LED 的 MOCVD 设备，三季度很多订单没有发货。4 季度，出货确认收
入会不会有比较大的增加？
四季度会有很多 MOCVD 设备运出。但设备运出和签收还需要一段时间。
Q：ICP 刻蚀机的市场定位？在代工厂，公司 ICP 产品能进入哪种制程？具有怎
样的比较优势？
ICP 设备使用最先进设计，原则上可以和 CCP 做到一样好的程度。ICO 产品主要
用于前段制程。目前该产品还没有进入台积电，希望不久的将来能做到 14nm、
10nm 以下。
Q：公司未来几个大目标、行业拓展、营收预期？
公司发展战略：三维立体发展。
一维：关键设备方面，从等离子体刻蚀机到 CVD 设备，最后到部分测试设备。
有了一定的部署。
公司投资了投资沈阳拓荆，支持开发介质材料化学沉积设备；投资了上海
ruili 科技。在光学检测、线宽测试、缺陷检测方面支持 ruili 的发展。
二维：开发泛半导体设备。十多年做了两种泛半导体设备，一是先进封装 TSV
刻蚀设备；二是显示屏产线的 MOCVD。投资了一家做太阳能电池的 CVD 设备的
公司。主要关注等离子刻蚀设备、化学薄膜设备和部分检测设备。
三维：利用核心竞争力：物理化学，复杂系统自动化智能化，软件开发能力。
建立了中微慧创，开发环保设备；中微汇链，开发工业互联网、区块链、产业
链协同体系。公司也在不断探索新的领域。这些领域特点是周期性弱，研发投
资低，潜在收入高，可以确保公司以后十年高速、稳定、安全地发展。
三维发展中，公司贯彻两个途径，一个是有机生长：自己组建团队，自己研
发；第二个是外延扩张：并购有独特技术的公司。
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