无法取代,另辟战场
88岁的Mitarai指出,纳米压印技术不太可能超越ASML的光刻机,但其将创造新的机会和需求,已经有很多客户提出采购意向。
纳米压印是一种微纳加工技术,它采用传统机械模具微复型原理,能够代替传统且复杂的光学光刻技术。简单而言,像盖章一样造芯片,把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上,再将印章盖在橡皮泥上,得到与印章相反的图案,经过脱模就能够得到一颗芯片,这里的橡皮泥是指纳米压印胶,印章即模板。
近十年来,佳能一直与大日本印刷公司和存储芯片制造商Kioxia Holdings合作开发纳米压印技术。与通过反射光工作的极紫外光刻(EUV)技术不同,纳米压印技术将电路图直接压印到晶圆上,且因其不使用镜头,可以用比现有曝光工艺更低的成本实现精细化生产芯片。
不过,纳米压印虽然仍能衔接最先进的生产工艺要求,但在速度上较光刻机逊色不少。因此,ASML光刻机仍是当今世界最先进的芯片制造机器,也是批量生产快速、节能芯片的首选设备。
佳能机器更像是为小型芯片生产商提供的选择,同时也能让台积电和三星电子等大型代工商更容易生产小批量芯片,从而节约成本。
据悉,佳能正在建设自己的第一家纳米压印设备工厂,预计将在2025年上线。