异动
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xiantou333
2025-06-30 07:59:14
谢谢分享
@加油奥利给: 作者:樊志远(国金电子)投资逻辑光刻机是晶圆制造最核心设备之一,技术难度最高且当前国产化率最低。在半导体制造领域,光刻机是延续摩尔定律的核心装备。当前最高端的产品为ASML研发的EUV光刻机,能支持7nm甚至更先进工艺,是延续摩尔定律的核心突破,正推动半导体产业持续迭代。全球光刻机市场呈现出明显的寡
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