以SSMB路线打破EUV光刻机封锁
 
据产业信息，清华大学EUV光源（工厂化）方案在雄安落地，用同步辐射源和自由电子激光两种混合光源形成SSMB-EUV光刻机光源绕开ASML封锁，在DUV光刻机之后突破EUV光刻机。
 
简单科普一下，SSMB-EUV光源路线是以工厂化的模式，将原本用于科研的大科学装置来产生极紫外光源，从而绕开了ASML超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。
 
形象一点的比喻就是将ASML EUV光刻机里面小型的光源部件光源变成类似工业园中的大型基础设施，凭借1千瓦级的超大功率（为ASML的40倍）供几台甚至几十台EUV同时使用。
 
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