第一只国产ArF光刻胶+集成电路 1、5月31日公告，自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后，近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。认证评估结果显示，本次认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证，宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求，表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。 2、公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，这标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。 3、公司是光电新材料MO源产业化生产的企业，公司主要产品有三甲基镓、三甲基铟、三甲基铝等材料 4、公司参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过中芯国际等客户的认证，子公司山东飞源气体向台积电和中芯国际供货的主要产品是三氟化氮。