一、光刻胶产业链及上游原料成本用量
光刻胶是晶圆制造重要材料。光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种感光材料,在光的照射下发生溶解度的变化,可以通过曝光、显影及刻蚀等一系列步骤将掩膜板上的图形转移到基片上。光刻胶是电子产品细微加工技术的关键性电子产品,被广泛应用于半导体、液晶显示(LCD)、印刷电路板(PCB)等领域。
光刻胶是由树脂、添加剂、光引发剂和溶剂等组成的对光敏感的混合液体。从光刻胶成本占比来看,树脂占比最大约50%,其次是添加剂占比约35%,剩余成本合计占比约15%。从各成分作用来看,树脂是惰性聚合物,是用于把光刻胶中的不同材料聚在一起的粘合剂,给予光刻胶机械和化学性质;添加剂(包括单体、助剂等)则控制和改变光刻材料的特定化,学性质或光响应特性;光引发剂(包括感光剂、光致产酸剂等)是光刻胶材料中的光敏成分,发生光化学反应;溶剂使光刻胶具有流动性,易挥发,对于光刻胶的化学性质影响小。
上海八亿时空先进材料有限公司(以下简称“上海八亿时空”)宣布了KrF光刻胶树脂量产成功的好消息,并首次交付客户量产级产品,标志着八亿时空光刻胶树脂开发工作迈出了具有里程碑意义的重要一步。