按下游应用领域划分,光刻胶可分为IC光刻胶、PCB光刻胶、LCD光刻胶。IC光刻胶根据曝光波长又可分g线光刻胶(436nm)、i线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)在半导体光刻胶领域,KrF ArF 的国产化率不到3%,EUV的国产化率不到1% 对于当下中美科技竞争格局下,高端光刻胶的国产替代刻不容缓!瑞联新材,公司布局半导体光刻胶,目前大概有20多种单体材料,其中Arf光刻胶已量产预期差最大的是,对比其他半导体光刻胶同行,已实锤公司的Euv光刻胶已经通过客户验证,并有百公斤级的销售这个数据从当下显示是A股唯一且最好的Euv光刻胶进度对比当下其他xx新材的情绪票,公司目前股价处于历史低位,在国产自主替代趋势下,公司光刻胶产品具有
强基本面和先发优势带来的强α!
S瑞联新材(sh688550)S