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大千60280220
2023-09-08 23:06:30
学习了,感谢分享!
@喜欢涨停板:  国产EUV光刻机即将问世,中科院为大家解惑:侧重点在掩模板,光刻胶,高纯度气体等关键材料的优化。经过连续两年的研究,詹志华团队找到了依据新版存储器标准设计国产高密度掌握器(高纯度气体是其中的关键)的工艺关键点和一整套工艺方案,“一旦工艺方案得到业内认可并实现超越后,可无缝过渡到芯片设计,
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