半导体存储器在第四次工业革命背后的科技发展中发挥着重要作用，如大数据、人工智能（AI, Artificial Intelligence）、物联网（IoT, Internet of Things）、智慧工厂和自动驾驶汽车等。因此，过去几年来，半导体存储器的重要性和需求与日俱增，并预计在未来迎来进一步增长，形成推动创新技术发展、突破现阶段能力基础的驱动力。为此，我们需要以创造性思维,引领半导体存储器的开发与规模化生产。

高性能数据处理是第四次工业革命的关键，这意味着半导体需要具备超高性能和超低功耗。业界对处理更高质量数据（以及更多高质量数据）的需求正在激增，这意味着从生产设备到零部件和材料，再到技术创新，整个行业必须不断向前发展，才能在高标准、快速增长的市场中立于不败之地。但由于行业供需变化十分敏感，大规模投资极具挑战性。然而，产品生命周期短是半导体行业的一个特点，市场条件变化会导致产品价格快速变化，此外，生产工艺精细化需求较高也是行业特点之一。

S芯源微(sh688037）S 公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理（如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节）及6英寸及以下单晶圆处理（如化合物、MEMS、LED芯片制造等环节）。

公司作为我国主要的半导体设备制造商之一，生产的清洗机，涂胶/显影机，去胶机，湿法刻蚀机可应用于OLED制造工艺的清洗，涂胶/显影，去胶，刻蚀环节，未来还可用于硅基OLED制造领域。此外，公司还将凭借已有维信诺，京东方等标杆企业成功应用的案例优势，抓住硅基OLED和MEMS蓬勃发展的机遇，进一步扩大8～12英寸单片式湿法设备在硅基OLED和MEMS等领域的销售规模。另外，在LED芯片制造领域，虽然当前全球LED芯片行业正处在结构调整期，但4～6英寸化合物半导体市场正在迅速崛起，MiniLED等新一代显示技术也在趋于成熟，这将成为未来LED行业发展的重要驱动力。公司抓紧LED芯片行业的发展方向，积极推出适用于新兴领域的半导体设备，公司已有产品在化合物领域，MiniLED产线上应用。

公司的单片式湿法刻蚀机采用可变速摆臂喷洒化学液，同时利用高精度的流量检测和控制技术，多级稳压技术及在线温度检测及控制技术，对工艺所用的化学品流量，压力及温度等参数进行精准控制以满足多种刻蚀工艺要求，进而有效地提高刻蚀均匀性，降低侧蚀效应，目前广泛应用于集成电路后道先进封装制程中的湿法刻蚀环节。公司在利用已掌握的刻蚀设备相关成熟技术的基础上，开发出适合膜厚1-130微米各种正负性光刻胶去除及适用于金属剥离的去胶机，在研发过程中，解决了浸泡单元技术，在浸泡单元中引入了鼓泡技术，化学液溢流技术及片盒垂直翻转等关键技术。公司生产的清洗机通过自主研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除，去除率超过95%，对于微米级别大颗粒，采用特殊材料的毛刷或高压喷淋对晶圆进行擦洗去除，配合特有的晶圆翻转装置和夹持式承片台，可在同一台设备中实现对晶圆的正反两面进行清洗。

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