周三舆情热度：

①半导体材料：日本经济产业省23日出台了修改后的《输出贸易管理令》，将先进半导体设备纳入出口管制法规的范围（容大感光、同益股份、格林达、南大光电、怡达股份等）

②AI游戏：游戏版号发放常态化，AI加持游戏产业开启新周期（电魂网络、天娱数科、冰川网络、恺英网络、神州泰岳等）

③CPO：CPO功耗相比以前降低了50%，体积更小，大规模量产的成本也更低，可以满足大型AI模型、超级计算机、数据中心等核心应用的通信带宽需求（光库科技、联特科技、太辰光、天孚通信、剑桥科技等）

④光伏：协鑫集团董事长朱共山表示，预计今年全世界光伏新增装机将在350GW左右，明年累计装机量很可能将超过水电（中信博、通灵股份、海源复材、格林达、钧达股份等）

⑤锰酸锂涨价：4月下旬以来，锰酸锂价格见底反弹，从4月低点的5.7万元/吨，涨至最新的9.5万元/吨，一个月时间价格涨幅达到66.67%（红星发展、湘潭电化、超频三、天力锂能、东方钽业等）

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事件：日本设备出口管制法规正式落地，看好国产设备加速替代

日本经济产业省5月23日公布了基于外汇法的出口管制法规修正版，该修正版在限制设备品类（23类设备）和范围（主要限制10-14nm先进制程）上与3月31日发布的草案无明显区别。中国如想获得名单内设备需要单独得到批准，该法案预计于7月23日施行。

该法规涉及3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备以及1项测试设备，主要针对先进制程

其中清洗包括（真空清洗及镀铜，多腔干式清洗，单片式清洗），薄膜沉积设备涉及（CVD、MOCVD、ALD等高端薄膜设备）；刻蚀包括（干法、湿法、干法各向异性设备）；高端真空退火设备；EUV掩模检测；步进式光刻机、涂胶显影机、掩膜设备等

中国为日本设备出口大国，该禁令影响TEL，尼康、Hitachi、DNS等公司

日本2021年向中国本土出口的制造设备达到约120亿美元，中国贡献其设备出口额的40%，受到该禁令影响的日本主要设备厂商包括TEL（刻蚀、薄膜沉积、涂胶显影等），尼康（光刻）、Hitachi(刻蚀)、DNS(清洗)等，该禁令出台后日本设备股大跌。

中国先进制程扩产或受影响，但不改成熟制程扩产趋势，看好国产化加速。

23类设备包括按运算用逻辑半导体的性能来看，均属于制造电路线宽在10～14纳米以下的尖端产品所需设备。先进制程或受到影响，但不改成熟制程扩产趋势。