粒子加速器(中广核技、国力股份,粒子加速器相当于光的动力装置)--->高能同步辐射光源(射频腔:东方钽业、西部材料;高次模抑制器:国光电气;HEPS特种电缆:宝胜股份;
清华大学SSMB-EUV光源横空出世,功率达到EUV光刻机40倍-虎嗅网
第四代同步辐射光源是为EUV光刻而生的
简单来说,SSMB-EUV光源路线是以工厂化的模式,将原本用于科研的大科学装置来产生极紫外光源,从而绕开了ASML超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。
形象一点的比喻就是将ASML EUV光刻机里面小型的光源部件光源变成类似工业园中的大型基础设施,功率达到10千瓦(为ASML EUV光源的40倍)供几台甚至几十台EUV同时使用。
ASML的EUV光刻机的光源是小型化产品,便于运输,主要用于销售。光刻机的镜头要求非常精密,因为光源要在5米内进行1nm级别的移动。我们目的是造芯片,虽然微型的我们做不出来,那我们就利用地大物博的优势,通过“工厂化”成功降低技术难度,对反射镜要求更低,完全支持大规模的芯片生产,妥妥的暴力美学。