纳米压印概念梳理

日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。

概念解释：纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够替代传统且复杂的光学光刻技术。日经新闻网称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠、佳能等公司则规划在2025年将该技术实用化。

降低成本：佳能的研究显示，其设备在每小时80片晶圆的吞吐量和80片晶圆的掩模寿命下，纳米压印光刻相对ArF光刻工艺可降低28%的成本，随着吞吐量增加至每小时90片，掩模寿命超过300批次，成本可降低52%。此外，通过改用大场掩模来减少每片晶圆的拍摄次数，还可进一步降低成本。

概念梳理（来自投互平台以及各大论坛）

汇创达（18.2e，30元,300）：投互热度高。公司立足微纳米热压印技术，致力于研发透光率高、量轻、所需能耗小的导光产品背光模组是公司基于自身导光膜产品结合微纳米热压印工艺的延伸产品，是公司的主营产品之一。

美迪凯（20.29e，11元，688）：公司控股子公司美迪凯(浙江)智能光电科技有限公司在纳米压印制程领域，具有自主知识产权及核心技术

苏大维格（51.07e，25元，300）：公司相继开发多个系列覆盖纳米级和微米级的光刻机与压印设备，已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。公司高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等部分直写光刻设备已向国内外高校及科研院所、国内企业等销售。

利和兴（29.38e，17元，300）：公司二代全自动纳米压印设备的研发项目处于研发测试阶段，尚待后续验证。公司全自动纳米压印生产线技术运用快速精密对位、非接触精确测厚、精密缺陷检测、光透传感、位移及角度补偿等自动控制相关技术，结合纳米压印的纳米模压技术与固化技术，把纳米压印行业内的单机手工作业方式改变为全工序自动化方式。

腾景科技（29.08e，35元，688）：公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。

清溢光电（62.16e，23元，688）：公司利用仿真模拟参数设计和纳米压印工艺形成微透镜聚光效应进一步提高光取出效率，从而提高产品亮度。

京华激光（29.29e，16元，主板）：公司核心技术人员陈金通参与或主导的“紫外光固化微纳米压印材料的研究与开 发”等被评为市级科技项目。

水晶光电（166.5e，12元，主板）：公司有纳米压印技术，主要用在半导体光学产品中。

歌尔股份（540e，18元，主板）：公司较早开展在光波导、纳米压印等AR光学核心产品和工艺领域内的探索，并已经积累了AR核心器件、模组以及AR整机项目的相关项目经验

奥比中光（69.06e，31元，688）：已完成衍射光波导全光学系统的功能设计与仿真，并探索纳米压印技术中清洗、匀胶、增粘、烘胶、压印和脱模等工艺，2023年上半年，公司新增纳米压印衍射波导片项目。

炬光科技（60.33e，88元，688）：公司目前已布局的光学加工工艺包括晶圆级同步结构化技术、精密模压、冷加工注塑、纳米压印等，得以覆盖无机材料、有机高分子材料等各类微光学元器件的加工制备。

望各位老师不吝赐教，祝好！