$利和兴(SZ301013) 美迪凯(SH688079)$ 从目前的技术路线看，光刻突破1纳米的成本是比较高的。纳米压印这个路线刚起步，值得长期观察，现在不好落地不重要，关键还是是否有希望突破1nm今天董秘的回复很好，解开了心中的很多困惑。其中：“公司的灰度光刻、纳米压印技术目前理论制程50纳米。”这是在未采用佳能先进纳米压印设备的基础上，能做到50纳米。关于引进佳能先进纳米压印光刻设备，公司答复：“设备引进看公司未来发展情况”。公司是让我们投资人感到尊重和赞美的。这是国内第一家，也是唯一一家，宣布可以采用灰光纳米压印光刻技术制造芯片的企业。发帖纪念一下。公司具备芯片多层堆叠技术和无引脚封装技术，公司5G射频芯片可以做到多少纳米。期待引进先进设备，期待钱塘半导体6月份投产。开国内灰光纳米压印光刻技术制造芯片先河。向美迪凯研发团队致敬！
苏大维格[300331]·2024-03-03 您好，公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——激光直写光刻设备及纳米压印光刻设备，构建了模块化、知识密集、可升级和快速配置的微纳制造平台体系。公司掌握光学图形设计、自研各类光刻设备并自制模具、自研纳米压印光刻设备并批量复制的微纳光学全链条技术能力，对市场需求、技术迭代等反应迅速，可为客户提供从初始设计到产成品的定制化技术服务。具体可关注公司定期报告等公告的相关内容，以公司公告为准。同时公司欢迎广大投资者莅临公司现场考察，增进彼此了解。谢谢。
:美迪凯(688079)请问公司纳米压印技术是否用于超薄光学指纹，又或是其他领域？ 2023年10月16日 09:10 来自 Android ◆ ◆ 美迪凯 美迪凯
尊敬的投资者，您好！公司的纳米压印技术可用于超薄屏下指纹、激光雷达、HUD、iToF、dToF、医学成像镜头、光学传感器等产品。| 收藏 | 评论 2023年11月06日 09:12 来自 Android
聪明的小陈
:美迪凯(688079)你好，根据公司的介绍，公司运用纳米压印技术，开发的无基材晶圆级压印光学模组，主要应用于模组小型化、薄形化领域。请问公司上述所说的，用纳米压印技术开发的产品，指的是超薄光学指纹相关吗 2023年10月16日 11:01 来自 Android ◆ ◆ 美迪凯 美迪凯
尊敬的投资者，您好！公司的纳米压印技术可用于超薄屏下指纹、激光雷达、HUD、iToF、dToF、医学成像镜头、光学传感器等产品。感谢您的关注！ | 收藏 | 评论 2023年11月06日 09:12 来自 Android
破晓1988
:美迪凯请问公司的纳米压印技术是否被用于佳能纳米压印光刻机的制造？公司与佳能在哪方面有合作？ 2023年10月18日 09:59 来自 网站 ◆ ◆ 美迪凯 美迪凯
尊敬的投资者您好！公司与佳能在业务上有一定的合作，感谢您的关注。
:美迪凯请问，贵公司有没有灰度光刻，纳米压印技术，及相关的专利申请，谢谢，请详细回答科普一下 2023年09月15日 08:45 来自 网站 ◆ ◆ 美迪凯 美迪凯
尊敬的投资者，您好!公司控股子公司美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司在纳米压印制程领域，具有自主知识产权及核心技术，公司采用灰度光刻、纳米压印及晶圆封装工艺成功开发了一种无基材晶圆级压印光学模组技术，突破性地解决了现有业内光学模组小型化、薄型化的难题，且开发的微形光学模组可集成ARS微纳结构实现抗反射光学性能，感谢您的关注！ | 收藏 | 评论 2023年09月27日 14:00 来自 网站
Ariesky
:晶方科技(603005)公司纳米压印设备是否已用于微透镜和晶圆生产？ 2023年09月15日 09:23 来自 网站 ◆ ◆ 晶方科技 晶方科技
您好，公司控股公司荷兰Anteryon公司的纳米压印早在2008年就开发了包括微透镜在内的晶圆级镜头工艺，公司控股子公司晶方光电在苏州的纳米压印产线从2019年开始也将此工艺应用在车用照明产品中，谢谢您的关注。
炬光科技(688167)炬光科技领导您好，请问贵司纳米压印技术涉及到的主要是哪个方面的内容？ 2023年10月23日 17:33 来自 网站 ◆ ◆ 炬光科技 炬光科技
尊敬的投资者您好，公司最近成功并购的瑞士 SMO（标的公司），有两种微纳光学的制备技术：一种是光刻-反应离子蚀刻法，即在6或8英寸硅或熔融石英晶圆上通过精密光刻-反应离子蚀刻的工艺实现微纳光学元器件的加工制造；另一种是纳米压印精密微纳光学设计与加工制造技术，即结合微纳光学设计目标进行母版的设计与制造，在8英寸晶圆基板上进行精密压印，达到小于±5微米的模具与基板对准精度。目前标的公司正在通过技术研发和设备升级，形成12英寸晶圆微纳光学加工制造能力。8英寸晶圆处于成熟量产阶段，12英寸晶圆处于开发阶段。感谢您对公司的关注！
网页链接
佳能纳米印刷技术获内存大厂力挺 产业链公司受关注
——————
据报道，美光公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术，从而进一步降低生产DRAM存储芯片的单层成本。美光在近日演讲中表示，由于光学系统本身性质，DRAM层的图案很难用光学光刻技术进行印刷，而纳米打印方式可以用更精细的方式打印出来，且鉴于纳米印刷技术应用成本是沉浸式光刻技术的五分之一，因此是非常不错的解决方案。
佳能于2023年10月公布FPA-1200NZ2C纳米压印光刻（NIL）半导体设备，预计最快将于今年出货，将为芯片生产开辟了一条新的途径。此前，内存大厂SK海力士也引入了佳能纳米压印机，用于进行3D NAND的生产测试
纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够代替传统且复杂的光学光刻技术。相较于目前已商用化的EUV光刻技术，纳米压印技术可大幅减少耗能，并降低设备成本。另外，纳米压印设备还可以使得芯片制造商降低对于ASML的EUV光刻机的依赖，使得台积电、三星等晶圆代工厂可以有第二个路线选择，可以更灵活地为客户生产小批量芯片。分析师认为，纳米压印技术在特定领域有替代传统光学光刻的可能，随着下游应用领域扩大以及该技术渗透率提升，该市场有望持续成长。
$苏大维格(sz300331)$ 公司自研纳米压印光刻设备并批量复制的微纳光学全链条技术能力，对市场需求、技术迭代等反应迅速，可为客户提供从初始设计到产成品的定制化技术服务。
$利和兴(sz301013)$ 公司全自动纳米压印生产线技术运用自动控制相关技术，结合纳米压印的纳米模压技术与固化技术，可把纳米压印行业内的单机手工作业方式改变为全工序自动化方式。（来自韭研公社APP）
佳能推出纳米压印半导体制造设备，或将替代光刻机：纳米压印技术解析
来自伏白的交易笔记的雪球专栏
一. 消息面汇总
10月13日，日本佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，是半导体制造关键工艺。
据介绍，佳能的纳米压印光刻（NIL）技术可实现最小线宽14nm的图案化，相当于5nm节点。此外，随着掩模技术的进一步改进，NIL有望实现2nm节点。
纳米压印技术被视为传统光刻技术的替代解决方案，在集成电路领域可实现更低成本的芯片量产。
二. 纳米压印技术解析
纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理。
纳米压印是将光刻胶涂在晶圆上，然后压上印有特定图案的印模以形成电路。因为它不使用镜头，所以比现有光刻工艺成本更低。
纳米压印替代的是光刻环节，其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积这些标准芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的接入现有产业。
与传统的光刻技术相比，纳米压印技术具有多重优势：首先纳米压印技术的制造成本仅为光刻技术的60%，耗电量仅为光刻机的10%；其次，纳米压印技术的工艺精度可以达到2纳米。
从应用范围来看，纳米压印技术的适用场景包括集成电路、存储、光学、生物医药、能源、环保等领域。
其中在芯片领域，纳米压印光刻不仅可用于制造集成电路，也可用于制造3D NAND、DRAM 等存储芯片。
三. 相关公司梳理
美迪凯：光学元器件、半导体零部件制造商。子公司在纳米压印领域，具有自主知识产权及核心技术，公司采用纳米压印工艺开发了无基材晶圆级压印光学模组技术。
水晶光电：主营光学影像、薄膜光学面板、汽车电子、反光材料。公司有纳米压印技术，主要用于半导体领域。
苏大维格：国内领先的微纳结构产品制造商，公司高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等。
汇创达：全球领先的背光模组制造商，公司立足微纳米热压印技术，背光模组是公司基于自身导光膜产品结合微纳米热压印工艺的延伸产品
作者：伏白的交易笔记
