光刻胶作为半导体核心材料之一，是继硅片、电子特气和光掩模之后的第四大半导体材料。光刻胶作为半导体的主要材料，伴随着半导体的缺乏，它的重要性也慢慢彰显出来。专业人员分析到2026年全球光刻胶市场规模将突破120亿美元。作为核心材料，之前都是依靠外国进口，国内毫无市场而言，这几年大力发展国产替代，这一领域渐渐得到发展。

截止发文，板块内江化微强势三连板，后有彤程新材和荣大感光首板助攻。

S南大光电(sz300346）S 公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

S国风新材(sz000859）S 公司主营生产经营双向拉伸聚丙烯薄膜和双向拉伸聚酯薄膜等包装膜材料、预涂膜材料、电容器用薄膜、聚酰亚胺薄膜、高分子功能膜材料和电子信息用膜材料，以及木塑新材料、工程塑料等。公司的主要产品为双向拉伸聚丙烯薄膜（BOPP薄膜）产品。

S芯源微(sh688037）S 公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）

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