打消息，华为已经提交了自对准四重图形刻蚀技术专利。据网传资料，自对准四重图形涉及多重曝光、薄膜沉积工艺，需要用到更多掩膜版， 公司8亿元建成后，将具备年产12450片半导体光掩膜版的生产能力，产品制程覆盖350-28nm。冠石一度两天涨停，路维，做光掩膜版龙头唯三龙头！低位，还未被挖掘！龙啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊啊太可爱了吧凑字数