特别提示:下文涉及的题材或公司,内容罗列和篇幅长短,与后续涨跌无关,亦均非进行推荐,仅作研究辅助。投资者应自主决策,注意风险。 一、市场热点 光刻机:网传测试先进原型机 ◇驱动:2026年4月20日网传消息,某先进光刻原型机正在深圳进行测试(未证实)。 ◇光刻机:国内半导体产业链自主可控关键,14nm以下制程芯片需要使用DUV(ArFi)及EUV光刻机,2025年网传中芯国际已在测试国产浸没式DUV光刻机,采用类似阿斯麦技术。 ◇零部件:1)光源系统:最为核心关节,为曝光过程提供能量,价值量约2