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无名小韭16781101
2026-01-18 22:25:20
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@伏白的交易笔记: 一. 掩膜版概览掩膜版又称光罩,是一种在高透光率透明基板上沉积特定图案层的的精密光学元件,主要作为半导体光刻工艺的图形转移母版。光刻工艺步骤:晶圆清洗→涂覆光刻胶→掩膜版安装与对准→曝光→显影→刻蚀→去胶。工作原理:通过掩膜版对光线的透过/阻挡筛选,将电路图案等比例缩小后投射到涂有光刻胶的晶圆,再通
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