日本今天开始正式限制23种半导体设备和材料出口给我国的企业，清单如下：

DUV光刻机；
感光胶；
化学机械抛光设备；
离子注入设备；
气相化学气相沉积设备；
热氧化设备；
外延设备；
磁控溅射设备；
离子束刻蚀设备；
低介电常数材料；
高纯度氢氟酸；
氮气；
氟化氢；
高纯度氮气；
高纯度氧气；
高纯度氩气；
高纯度氦气；
高纯度氢气；
高纯度二氧化硅；
高纯度氯气；
高纯度氟气；
高纯度氟化氢；
高纯度氢氟酸。

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