光掩膜版价值量最大的上游材料：
光掩膜版基板长期依赖进口，原材料国外垄断。目前，光掩膜版上游原材料厂商主要集中在日本和韩国，国内有数家企业有能力生产，但主要集中在中小 尺寸，产品应用行业也多在 TP、PCB 等低端行业，对于半导体用高精度及高世代面板用基材，基本被日韩垄断。
在光掩模制造成本中，直接材料占比达67%，而基板占直接材料的比重高达90%，因此基板占光掩模总制造成本的比例可达60.3%。遮光膜可分为乳胶遮光膜和硬质遮光膜（包括铬、硅、氧化铁），其中铬精度最高，耐用性更好，广泛应用于平板显示、IC（集成电路）、印刷线路板和精细电子元器件。
上游原材料使用的基板主要为合成石英。被用来制作光掩膜版的玻璃包括合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃，其中合成石英最为化学稳定，具有高硬度、低膨胀系数和透光性强等优势，适用于较高精度要求的产品生产，广泛应用于 LSI 用光掩膜、FPD 用大型掩膜的制造。但是石英成本高，现在倾向于发展高质量的合成石英材料，它能够提供宽的光投射 区域、低的杂质含量和少的物理缺陷，并且随着低膨胀率和深 UV 的要求变得逐渐广泛。
合成石英的制造难度大。目前最主要用于亚微米光刻的投影光掩膜版衬底材料是合成 石英，合成石英是用 SiCI4 作为原料，采用气相沉积（CVD）生产合成，其原理是将易挥 发的液体 SiCI4 在载料气体的带动下，进入氢气/氧气燃烧气中与水蒸气反应生成不定型二 氧化硅，并沉积在高温旋转的靶材上，最终熔化形成高纯石英玻璃。合成石英具有宽的光 投射铝区域，低的杂质含量和少的物理缺陷的特性。
中国建材总院利用多晶硅生产中的废弃物Si­Cl4为原料、以氯碱化工的副产品H2为能源、采用立式化学气相沉积（CVD：Ch­e­m­i­c­al Va­p­or De­p­o­s­i­t­i­on）工艺合成石英玻璃。此方法制备石英砣的纯度更高，可以满足光掩膜版对于石英玻璃基板纯度的要求，中国建材总院拥有此项技术的知识产权。
凯盛科技合成石英一期项目预计年底投产,首期规划5000~8000吨产能。目前中试线产品已给光伏、半导体送样,具体公司包括隆、中环、晶科、中芯,目前送样测试产品已经解决了前斯出现的统度、硬度、耐时高温性等间题,可以满足下游客户需求。
招股书提提到中芯国际拥有目前中国大陆最大、最先进的光掩模制造设施，可生产0.35微米到14纳米各技术节点的光掩模产品
UTG性能全球领先
2021年7月27日，华为技术有限公司公开了多项专利申请，其中包括“一种提高柔性玻璃弯折性能的加工方法”专利，公开号为CN113173708A。申请人为：凯盛科技股份有限公司和华为技术有限公司。摘要显示本发明公开了一种提高柔性玻璃弯折性能的加工方法，能够显著提高柔性玻璃的弯折性能。