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[礼物]拓荆科技点评:股权激励彰显信心,公司发展步入快车道
投研掘地蜂
2022-10-03 13:52:41

[太阳]事件:拓荆科技为提高公司整体中长期激励计划的有效性,保障公司长远发展,提出增值权激励计划(草稿)。

[烟花]1)本次计划拟向公司三位核心技术人员兼高管层:公司董事长吕光泉、公司董事姜谦、公司总经理田晓明分别授予股票增值权15万份、10万份、15万份,合计约占本草案公告时公司股本总额(12647.8797万股)的0.32%,授权价格为105元/股。

[烟花]2)等待期及行权安排:等待期为公司股票增值权授予完成日起的12个月,12个月后方可行使股票增值权。在等待期后的12个月、24个月、36个月、48个月,分四次行权,每次的可行权比例均为25%。

[烟花]3)业绩考核条件以2021年业绩为基数,公司2022-2024年营收增长率分别不低于80%(13.64亿)、160%(19.71亿)、240%(25.77亿)、320%(31.84亿),且净利润增长率不低于258%(2.43亿元)、466%(3.85亿)、657%(5.15亿)、848%(6.45亿),且当年个人考核评价结果为“一般”及以上,满足以上三个条件即可行权。因考核原因不能行权或不能完全行权的,作废失效,不可递延至下一年度。

[烟花]4)公司半年报亮点:
①公司产品PECVD 为主体,SACVD、ALD 实现新突破:PECVD 设备实现营收 4.67 亿元, yoy+345.21%;ALD 设备实现营收 848.37 万元,SACVD 设备实现营收 0.41 亿元,而去年同期 SACVD 和 ALD并未确认收入。
②原有 PECVD 设备中,PF-300T 产品已广泛应用于国内晶圆制造产线,NF-300H(六站式)在DRAM 领域实现首台产业化应用;ALD 反应腔通过现有客户验收,PE-ALD 在逻辑芯片领域实现产业化应用;Thermal-ALD 设备也已完成产品开发并取得客户订单。
③新产品:TS-300(多边形高产能平台)、基于高产能平台的热处理原子层沉积(Thermal-ALD)、高密度等离子增强化学气相沉积(HDPCVD)设备和紫外线固化处理(UV Cure)设备等新品亮相,HDPCVD 系列出货进行产业化验证,TS-300 已取得现有及新客户订单,UV 设备已出货至客户端进行产业验证并取得订单。

联系人:朱晔/李鲁靖/王昊哲19801106515

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