SSMB EUV简单说就是把光刻机 " 巨大化 "，用一台周长 100~150 米的环形加速器作为 " 光源 "，然后带动数台甚至数十台光刻机进行工作，这不是光刻机，这是 " 光刻车间 "、" 芯片加工流水线 "。

文中讲的——稳态微聚束 ( steady-state micro-bunching），简称 " SSMB"，用它造的光刻机，就叫 "SSMB-EUV" 光刻机。这个原理说得朴素一点，就是用高能加速器对电子加速，让后让它穿过交替变化的磁场（震荡腔），它会左右震荡，产生高频率、短波长的电磁波，甚至是可见光，如果把电子加速到接近光速，那么就会产生更短波长的光，甚至是 X 光。我们把电子抱成极小的纳米级别的 " 电子团 "，让每一个电子团中的电子震荡发出的电磁波都在同相。让 nm 级别的电子团一串一串通过加速器，进入震荡腔，每一团都左右震荡，就能在各个位置得到功率很大的相干光。

这个方案理论上已经被反复验证，目前正在付诸实践。研发光刻机的目的，就是用来造芯片，那么光刻机又何必非要是荷兰意思 asml 家的那个模样呢？asml 造出的光刻机主要是为了出售给全世界，那么他们就必须考虑小型化，光刻机的光源也必须小型化 ...... 那么如果我们自己造光刻机，其实并不需要考虑这个问题，如果真的造出了能够满足各种制程的 " 光刻工厂 "，那么就不存在什么成本问题，成本不但不会变高。