【光刻胶研究框架】方正电子团队
王小明
长线持有
2021-06-02 21:25:03
【光刻胶研究框架】方正电子团队
🤔高端光刻胶国产化率不足5%，在外部产能不足的刺激下，随着KrF、ArF光刻胶研发完毕，光刻胶将真正进入国产替代的高峰期。
📚受益于国内晶圆厂产能扩充和国产替代加速，持续看好：晶瑞、彤程（科华）、华懋（博康）、南大光电、上海新阳。
晶瑞股份：KrF完成中试；ArF研发工作正式启动；2020年光刻胶创新高达到1.8亿元。
彤程新材：收购半导体光刻胶龙头北京科华，产品覆盖KrF、i线、g线，拥有百吨级248nm光刻胶生产线，正在攻克ArF光刻胶。
华懋科技：投资博康布局光刻胶，上游材料技术达到先进水平，成功开发或测试KrF光刻胶、ArF光刻胶产品，新建年产1100吨光刻材料项目。
南大光电：获得国家02专项ArF光刻胶立项，ArF产品成功通过使用认证，拟建立年产25吨ArF（干式/浸没式）光刻胶产品的产线。
上海新阳：公司已获得ArF干法、KrF厚膜产品配方和技术参数，达到进行中试产品验证的基本要求，购得ASML光刻机，用于研发高端光刻胶。
📚报告链接：光刻胶：研究框架（100页重磅） http://t.hk.uy/mes
📞欢迎交流：方正电子陈杭/李萌
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彤程新材
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晶瑞电材
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南大光电
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