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光刻机,现代工业集大成者,亟待国产破局
加油奥利给
下海干活的韭菜种子
2024-03-01 08:10:51
作者:付强,徐勇,徐碧云
光刻是半导体核心工艺,开发难度大,
性能指标要求高。光刻机是半导体制造
的核心设备,其性能直接决定了芯片的
工艺水平,开发难度大,价值量高,市
场规模可观,目前市场主流光刻设备有
i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类;
分辨率、套刻精度、产率是光刻机的核
心指标,其中,分辨率直接决定制程,
极致的分辨率水平是光刻机产业不懈的
追求,是光刻机最重要的指标,而套刻
精度影响良率,产率影响光刻机的产能
及经济性,此外,多重曝光技术可在光
刻机分辨率不变的情况下进一步提高芯
片制程,应用较为广泛。
光刻机是现代工业的集大成者,核心为
光源/照明/投影/双工作台四大子系
统。1)光源系统经历了高压汞灯→DUV→EUV的发展历程,为追求更极致的分辨率,光源波长需要不断缩短,光源的演进历程很大程度上代表了光刻机的发展历程,DUV、EUV光刻机便是以光源命名的,其中DUV光源是准分子激光器,EUV光则是高能激光轰击金属锡滴产生;2)照明系统是对光进行扩
束、传输、整形、匀化、准直、汇聚后
照射至掩膜,DUV采用反射式光路,
EUV采用折射式光路;3)投影系统是
将掩膜图形按一定比例投射至晶圆,浸
没式投影可增加光刻机NA值,进一步
提升光刻机分辨率;4)双工作台系统
主要作用为提高产能,改善光刻机的经
济性。
光刻机产业呈现强垄断特性,国产突破
是唯一选择。ASML、Nikon、Canon是全球光刻机产业三大龙头,占据绝大部
分市场份额,其中ASML在高端浸没式
DUV及EUV方面绝对领先,Nikon在浸
没式DUV方面也有少量出货,Canon则测
聚焦中低端领域。国内来看,上海微电
子是领航者,在"02专项”支特以及产业
链公司的共同努力下,国产光刻机产业
链不断完善:科益虹源已实现准分子激
光光源的出货,炬光科技的光刻机用匀
化器取得规模可观的营收,茂莱光学已
掌握"光刻机曝光物镜超精密光学元件
加工”核心技术且其精密光学器件已应
用于国产光刻机中,华卓精科则在双工
作台方面取得突破。在当前海外对华制
裁的背景下,光刻机是被限制的重点,
国产化是唯一选择,亟待突破。
投资建议:光刻机是半导体产业的核心设备,直接决定芯片制程的先进程度,重要性不言而喻,在全球半导体产业持续扩张的趋势下,光刻机市场规模长期可观;此外,光刻机开发难度大,产业垄断性强,是海外对华半导体制裁的重灾区,直接影响国内半导体产业先进制程的发展,因此光刻机自主突破的重要性尤为凸显,光刻机国产产业链颇具潜力,建议关注炬光科技、茂莱光学、晶
方科技、福晶科技、波长光电、腾景科技等。
风险提示:()国内技术产品开发不及预期的风险。(2)海外制裁加剧的风险。(3)下游需求不及预期的风险。
作者利益披露:转载,不作为证券推荐或投资建议,旨在提供更多信息,作者不保证其内容准确性。
声明:文章观点来自网友,仅为作者个人研究意见,不代表韭研公社观点及立场,站内所有文章均不构成投资建议,请投资者注意风险,独立审慎决策。
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唐门三少
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无名小韭46380923
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大唐盛市
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无名小韭49910911
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03-01 15:22
国产替代
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无名小韭49910911
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无名小韭08050823
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科技兴国
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无名小韭08050823
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