进展：目前通过实验室外协的方式进行样品生产和送样交流，主要为前道工序，幅宽1米多，溅射厚度30-40纳米，外协阶段靶材使用铜管；23年3月底腾胜和东威的设备到位，调试优化后进行完全产品生产和送样。

设备和产线：目前定的PVD设备为12靶位，5米/分钟，6000米连续性，通过自身调试优化希望达到8米/分钟，10000米连续性。由此单条产线年产能约400万平米。受水电镀建厂审批严格影响，预计复合铜箔生产线将设立在三明，后续考虑龙岩，将落实到相关文件上。

工艺和优势：公司基膜首先基于PET，采用磁控溅射 水电镀两步法；待设备到位后，大概率会使用自己的铜靶才而非铜管；优势在于公司深厚的PVD技术积累和靶材。

技术团队：PVD基于现有团队，水电镀等环节已从友商和电池厂引入相关人员。