苏大维格9月14日还提及“纳米压印”技术。在回复“纳米压印技术有没有替代EUV光刻机的可能性”时，苏大维格称：“根据相关资讯，佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产。”

此外，苏大维格也表示：“纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小。”

也就是说，苏大维格对外销售的光刻机主要是直写光刻机，纳米压印主要是自用。

那么，苏大维格自身拥有“纳米压印”技术吗？深交所要求其说明：“你公司纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成电路领域的布局情况，并充分提示相关风险。”

关于纳米压印技术能否替代EUV光刻机，夏珍向记者解释：“纳米压印可潜在替代EUV、DUV。当DUV（技术）再往下走，日本厂商并没有选择EUV，而是采用了‘纳米压印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技术，来开发新一代的设备。纳米压印技术和现在市场上的光刻技术有所不同。基于光学的曝光机，也就是我们常说的光刻机，从Reticle（掩膜版）到晶圆是4：1的缩小比例，而纳米压印技术下的Reticle选用特殊加工方法，从Reticle到晶圆是等比例的。这意味着只要Reticle能做到5nm，就能压印出5nm的东西。”

夏珍补充表示：“此外，采用纳米压印技术的成本较低，低成本主要体现在两个方面，一是设备本身的成本低，二是在使用的过程中用电量低。”

那么，纳米压印技术目前进展如何呢？夏珍介绍：“目前基于纳米压印技术的设备还没量产，处于量产评价阶段，但从实验室的角度来看，已经实现了10+nm，未来将进一步拓展至5nm。”