5月23日，日本经济产业省公布了出口贸易管制令征求意见稿结果（初稿于3月31日公布），正式版限制范围与初稿基本一致，其中对先进工艺限制较大的有以下几类：

🔺光刻机：45nm以下的浸没式光刻机（实际影响28nm及以下制程）；
🔺刻蚀：深宽比大于30:1的介质刻蚀（影响3D NAND）；
🔺薄膜：硬掩膜、金属沉积等；

本次正式版禁令的限制范围仍以逻辑和存储的先进制程为主，成熟制程扩产仍有望继续推进，而先进制程则有望迎来更强的国产化动力。此外，本禁令将于7月23日正式生效。

#关注日企替代供应商投资机遇
2022年日本对华出口半导体设备超过410亿元，替代空间广阔，建议关注对日本企业形成替代的国产龙头：
【中微公司】刻蚀+金属沉积，TEL替代；
【芯源微】涂胶显影，TEL替代；
【拓荆科技】PECVD先进膜；
以及其他环节的国产供应商中科飞测、北方华创等，后道测试环节亦有对日企爱德万的替代机遇，建议关注长川科技、华峰测控。