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2025-10-07 20:45:31
安集科技和AMD
安集科技与AMD存在直接合作关系,且合作深度随着AMD先进制程的推进持续加深。 一、直接合作:抛光液深度参与AMD先进制程 安集科技的铜/铜阻挡层抛光液已直接进入AMD 14nm及以下先进制程供应链,成为其芯片制造中关键工艺的核心材料。CMP(化学机械抛光)是芯片制造中实现纳米级平坦化的必备工艺,尤其在FinFET、GAA等先进结构中,抛光液的性能直接影响芯片良率。AMD的Ryzen、MI系列GPU等产品在生产过程中均需使用安集科技的抛光液,以解决铜互连工艺中的表面缺陷控制问题。 随着AMD加速
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安集科技
安集科技与长江存储的合作进展良好,在多个产品领域取得了重要突破,具体如下: - 抛光液产品:安集科技是长江存储CMP抛光液的第一大供应商,其抛光液产品已覆盖长江存储12英寸3D NAND产线,在28nm以下先进制程中实现国产替代。公司的铜/铜阻挡层抛光液在长江存储的市占率超20%,14nm以下制程抛光液已实现突破,且14纳米存储芯片抛光液良率从去年的88%提升至今年的92%。此外,安集科技的钨抛光液、钴抛光液也已通过长江存储认证,打破了美国卡伯特的垄断。 - 光刻胶产品:安集科技是国内唯一实现A
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安集科技与AMD存在直接合作关系,且合作深度随着AMD先进制程的推进持续加深。 一、直接合作:抛光液深度参与AMD先进制程 安集科技的铜/铜阻挡层抛光液已直接进入AMD 14nm及以下先进制程供应链,成为其芯片制造中关键工艺的核心材料。CMP(化学机械抛光)是芯片制造中实现纳米级平坦化的必备工艺,尤其在FinFET、GAA等先进结构中,抛光液的性能直接影响芯片良率。AMD的Ryzen、MI系列GPU等产品在生产过程中均需使用安集科技的抛光液,以解决铜互连工艺中的表面缺陷控制问题。 随着AMD加速
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安集科技与长江存储的合作进展良好,在多个产品领域取得了重要突破,具体如下: - 抛光液产品:安集科技是长江存储CMP抛光液的第一大供应商,其抛光液产品已覆盖长江存储12英寸3D NAND产线,在28nm以下先进制程中实现国产替代。公司的铜/铜阻挡层抛光液在长江存储的市占率超20%,14nm以下制程抛光液已实现突破,且14纳米存储芯片抛光液良率从去年的88%提升至今年的92%。此外,安集科技的钨抛光液、钴抛光液也已通过长江存储认证,打破了美国卡伯特的垄断。 - 光刻胶产品:安集科技是国内唯一实现A
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安集科技与AMD存在直接合作关系,且合作深度随着AMD先进制程的推进持续加深。 一、直接合作:抛光液深度参与AMD先进制程 安集科技的铜/铜阻挡层抛光液已直接进入AMD 14nm及以下先进制程供应链,成为其芯片制造中关键工艺的核心材料。CMP(化学机械抛光)是芯片制造中实现纳米级平坦化的必备工艺,尤其在FinFET、GAA等先进结构中,抛光液的性能直接影响芯片良率。AMD的Ryzen、MI系列GPU等产品在生产过程中均需使用安集科技的抛光液,以解决铜互连工艺中的表面缺陷控制问题。 随着AMD加速
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安集科技与长江存储的合作进展良好,在多个产品领域取得了重要突破,具体如下: - 抛光液产品:安集科技是长江存储CMP抛光液的第一大供应商,其抛光液产品已覆盖长江存储12英寸3D NAND产线,在28nm以下先进制程中实现国产替代。公司的铜/铜阻挡层抛光液在长江存储的市占率超20%,14nm以下制程抛光液已实现突破,且14纳米存储芯片抛光液良率从去年的88%提升至今年的92%。此外,安集科技的钨抛光液、钴抛光液也已通过长江存储认证,打破了美国卡伯特的垄断。 - 光刻胶产品:安集科技是国内唯一实现A
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