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释稼
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释稼
2023-09-16 09:21:53
较全面!
@柴尔德:光刻机深度 _ 中航科技电子团队
省流总结:光刻机里发生了?1.光掩模、透镜组和硅片工件台会精密对准和调平2.光源放光3.移动工件台◼ 光刻为IC制造核心工艺,光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本,在瑞利公式:𝐶𝐷 = 𝑘1𝜆/𝑁𝐴 的指导下,人类在缩短波长𝜆,增大数值孔径NA,降
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