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2025-10-04 07:21:00
国产光刻机破局
国产光刻机破局:特色工艺切入,迈向自主可控新征程 近期,国产光刻机及半导体设备领域迎来多项关键突破:上海微电子2025年9月首次公开EUV光刻机相关参数,标志高端光刻机技术取得标志性进展;稳顶聚芯自主研发的首台高精度步进式光刻机(WS180i系列)顺利出厂,聚焦化合物半导体与特色工艺领域;晶盛机电旗下12英寸碳化硅(SiC)衬底加工中试线通线,实现全流程设备自主。这些突破不仅填补了国产光刻机在特色工艺领域的空白,更推动半导体设备产业链向自主可控迈出坚实步伐。 ▌技术突破:从0到1的关键跨越,聚焦
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国产光刻机破局:特色工艺切入,迈向自主可控新征程 近期,国产光刻机及半导体设备领域迎来多项关键突破:上海微电子2025年9月首次公开EUV光刻机相关参数,标志高端光刻机技术取得标志性进展;稳顶聚芯自主研发的首台高精度步进式光刻机(WS180i系列)顺利出厂,聚焦化合物半导体与特色工艺领域;晶盛机电旗下12英寸碳化硅(SiC)衬底加工中试线通线,实现全流程设备自主。这些突破不仅填补了国产光刻机在特色工艺领域的空白,更推动半导体设备产业链向自主可控迈出坚实步伐。 ▌技术突破:从0到1的关键跨越,聚焦
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